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關(guān)于shinkuu磁控濺射設(shè)備的了解

2023-3-20  閱讀(1183)

關(guān)于shinkuu磁控濺射設(shè)備的了解

磁控濺射裝置應(yīng)用了在靶材背面使用強(qiáng)磁鐵促進(jìn)陰極表面層電離的原理,然后用磁場用離子轟擊靶材以釋放金屬分子。
在電子顯微鏡應(yīng)用中,主要使用金和鉑等貴金屬。 我們還有一系列型號,可以濺射其他金屬靶材。

電子顯微鏡濺射,主要顆粒尺寸比較


AU:黃金觀察區(qū)域:10,000~10,000倍 Au-PD:金鈀

觀察區(qū)域:10,000~50,000倍
非常適合
低倍率觀察和良好的對比度。

鉑:鉑金 觀察區(qū)域:50,000~100,000次 Pt-PD:鉑鈀

觀察區(qū)域:30,000~50,000倍
它具有細(xì)
粒度,通常用于高倍率觀察。

W:鎢
觀察放大倍數(shù):10萬倍以上
粒徑與鋨相當(dāng),使得在放大倍率區(qū)域觀察甚至高于鉑。

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只需使用計時器設(shè)置涂層時間,然后按開始按鈕!
任何人都可以輕松進(jìn)行濺射。

裝置特征目標(biāo)金屬
MSP-mini
超緊湊型濺射機(jī)
這是光學(xué)顯微鏡,銀光膜制作,SEM和臺式SEM預(yù)處理的工具。
MSP-1S
這是一個內(nèi)置泵的小型濺射裝置。
鉑靶的濺射也是可能的,也可用于高達(dá)約50,000次的高倍率觀察。




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