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束蘊儀器(上海)有限公司

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德國布魯克XRD-高溫臺使用中的一二三

閱讀:3918      發(fā)布時間:2020-8-5
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國內(nèi)的高溫臺數(shù)量驚人,但是國內(nèi)能提供高水平高溫測試的XRD用戶數(shù)量少之又少。主要是因為對高溫臺了解的不夠多。下面簡述高溫臺使用過程中您必須知道的內(nèi)容。

 

1

加熱方式

 

高溫臺加熱方式分為三種:

 

(1)直接加熱。

 

包括電阻加熱和加熱帶加熱。優(yōu)點是加熱速度快,但樣品有溫度梯度。電阻加熱的優(yōu)勢在于可以加熱,也可以降到很低的溫度。例如MTC-LOWTEMP屬于電阻加熱,如圖1。而MTC-HIGH屬于加熱帶加熱,如圖2。

 

(2)環(huán)境加熱。

 

不同于直接加熱方式時樣品放置在加熱帶上,環(huán)境加熱時的樣品放置在惰性的樣品槽上,加熱絲盡可能的包圍樣品進行加熱。優(yōu)點是樣品溫度均勻。例如MTC-Furnace,如圖3。

 

(3)同時包含直接和環(huán)境加熱方式。

 

例如MTC-HIGHTEMP+。如圖4。

 

 

2

樣品臺高度校正和測試幾何的選擇

 

(1)加熱帶在加熱的條件下由于熱膨脹其高度會發(fā)生明顯改變,在加熱到1000?C時高度大可能改變0.5mm左右。根據(jù)樣品高度變化對測試角度的影響公式:

 

 S樣品位移量,R測角儀半徑。

 

以28.4°的衍射峰為例,當s=0.1mm時峰移0.08°。這對后期XRD曲線的數(shù)據(jù)分析會有很大影響。所以在進行高溫測試時必須考慮加熱帶受熱高度變化的影響。

 

(2)樣品槽高度的校正:

 

根據(jù)樣品擋住一半直射光強度的方法,可以很方便地調整好樣品槽的高度。

 

為了在每個溫度下都在正確的樣品高度下進行測試,建議在每個需要測試XRD曲線的溫度點均進行樣品槽高度的調整。

 

(3)測試幾何的選擇:

 

高溫測試一般用BB幾何(如圖5)進行,因為強度高,角度分辨率好。但是BB幾何受樣品高度影響大,當加熱帶受熱高度改變后,樣品峰位置會發(fā)生明顯移動。如果不愿意在每個測試的溫度點下都進行樣品的高度調整,那么為了避免加熱帶高度改變帶來的影響,可以使用平行光幾何(如圖6)來進行變溫的測試。

 

 

 

3

樣品臺的測試背景

 

(1) 高溫臺樣品腔上的窗口膜會產(chǎn)生背景,這些背景會和樣品的信號疊加在一起。在選擇膜時盡量選擇不會影響樣品信號的材料。在測試樣品前也有必要先測試一下樣品腔的背景。同時窗口膜也會造成測試強度的降低,因此在達到保溫目的的前提下,盡量選擇薄一點的窗口膜。

 

比如高溫臺樣品腔上的聚酰亞胺膜(Kapton膜)會在2theta為7的附近產(chǎn)生散射包。這個散射包一般不會與無機樣品的衍射峰重疊,因此聚酰亞胺膜是常用的高溫臺樣品腔上的窗口膜。

 

(2) 加熱時的樣品槽或者加熱帶也會產(chǎn)生背景。對于吸收系數(shù)高的樣品,X射線無法穿透樣品到達樣品槽或者加熱帶的表面,此時感覺不到樣品槽和加熱帶的影響。對于吸收系數(shù)低的樣品,X射線會穿過樣品打在樣品槽或加熱帶上,此時加熱帶的峰就會和樣品的峰疊加在一起(如圖7)。這時樣品應該采用透射模式測試。

 

 

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