• 針對質(zhì)譜系統(tǒng)優(yōu)化的全系列泵和控制器
• 具有多入口泵組的定制泵
• 低成本、易于使用、高分析性能
• 對于 GC/MS，提供用于相對低氣體載荷環(huán)境的 1 個真空室和用于分析無機樣品的中等真空接口
• 對于 LC/MS，需要提供多室、高通量真空系統(tǒng)
• 對于 ICP-MS，提供多種真空系統(tǒng)，包括用于氬氣等重載氣的泵和使用氦氣的碰撞池
• 對于 TOF 系統(tǒng)，需要較小尺寸、高通量和高效的散熱設備

• 質(zhì)譜
• GC/MS
• LC/MS
• ICP-MS
• TOF

• 非常清潔、可靠和高性價比的 HV 和 UHV
• 粗真空軸承未暴露于 UHV，降低了污染
• 高速和高壓縮
• 可以以任意角度安裝
• 聯(lián)用 Turbo-V 和 TriScroll 干式泵可泵送大量氣體

• 高能物理
• 融合技術
• 一般 UHV 研究
• 同步光源粒子加速器

• 為薄膜沉積應用而專門設計的集成分子泵解決方案
• 適用于原始設備制造商和終端用戶的專業(yè)性能
• 適用于具有預真空鎖或大型內(nèi)聯(lián)連續(xù)系統(tǒng)的單室批量系統(tǒng)和多室系統(tǒng)的泵

薄膜沉積：

• 玻璃涂層設備（建筑和汽車玻璃，平板顯示器）
• 薄膜太陽能電池生產(chǎn)（光電）
• 光學數(shù)據(jù)介質(zhì)（CD、DVD、磁光光盤）
• 磁性存儲介質(zhì)
• 表面處理
• 光學涂層（眼科、精密光電）
• 膜或箔上的輥式/卷繞涂覆

設備加工：

• 生產(chǎn)電視機和顯示器顯像管
• 疏散燈（高速公路照明、投影機）
• X 射線管和電子設備

一般工藝：

• 真空爐/冶金

• 分析從有機化合物到半導體晶片等各類物質(zhì)
• 全系列的高真空和超高真空泵特別適用于要求嚴苛的 SEM、TEM 和表面分析系統(tǒng)
• 低振動渦旋泵適用于敏感的顯微分析
• 可快速、無油式排空大型樣品室內(nèi)的氣體
• 集成的泵控制器可靈活進行控制，幾乎不生成電磁噪音
• 非常適合為半導體生產(chǎn)創(chuàng)造合適環(huán)境
• 高轉速確保能夠以高泵速抽空半導體生產(chǎn)中釋放的輕質(zhì)氣體（He、H）
• 符合高速循環(huán)應用的嚴格要求，例如真空裝載鎖
• 通過對多個渦旋泵聯(lián)用一個前級泵，可提高工具的可靠性
• 聯(lián)用 Turbo-V 和 TriScroll 干式泵可泵送大量氣體
• 安裝于支架上的控制器或一體式控制器允許將電子設備放置于遠處

• 電子顯微鏡（SEM、TEM）
• 聚焦離子束系統(tǒng) (FIB)
• 表面分析
• 半導體制造