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廣州領(lǐng)拓儀器科技有限公司
初級(jí)會(huì)員 | 第3年

400-8084-333

標(biāo)樂(lè)Buehler 金相制樣
徠卡Leica 顯微鏡
徠卡Leica 電鏡制樣
威爾遜
形創(chuàng) 三維掃描測(cè)量
萊馳RETSCH 粉碎、研磨、篩分
麥奇克萊馳MICROTRAC MRB 粒度粒形分析儀
埃爾特ELTRA 碳 / 氫 / 氧 / 氮 / 硫元素分析儀
卡博萊特蓋羅Carbolite Gero 高溫箱爐
鼎竑離子減薄
EM科特 臺(tái)式掃描電鏡
美墨爾特
微曠 高性能原位X射線CT
英斯特朗Instron 力學(xué)測(cè)試
業(yè)納 長(zhǎng)度測(cè)量?jī)x器
澤攸科技掃描電鏡&臺(tái)階儀
島津Shimadzu 色譜
島津Shimazu 元素分析與光譜儀
島津Shimazu 表面分析
島津Shimadzu 物理性分析
島津Shimadzu 無(wú)損檢測(cè)
TQC /SHEEN涂料測(cè)試
其他設(shè)備
金相切片耗材

? 領(lǐng)拓聚焦 | 2025光電子與半導(dǎo)體器件前沿技術(shù)研討會(huì)

時(shí)間:2025-5-7閱讀:136
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為了促進(jìn)我國(guó)光電子與半導(dǎo)體領(lǐng)域高速、高質(zhì)量建設(shè)和發(fā)展,4月18-20日,2025 光電子與半導(dǎo)體器件前沿技術(shù)研討會(huì)在成都順利召開(kāi)。

現(xiàn)場(chǎng)精彩

本屆會(huì)議旨在聚焦光電子與半導(dǎo)體領(lǐng)域科學(xué)前沿和行業(yè)關(guān)鍵技術(shù),搭建學(xué)術(shù)界和產(chǎn)業(yè)界交叉融合的交流平臺(tái),分享領(lǐng)域最新成果,探討研究思路和發(fā)展方向,為光電子與半導(dǎo)體領(lǐng)域發(fā)展提供新方向。


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領(lǐng)拓在現(xiàn)場(chǎng)

領(lǐng)拓儀器作為分析檢測(cè)設(shè)備供應(yīng)商,受邀參加本屆會(huì)議。在半導(dǎo)體材料與器件專題會(huì)議上,領(lǐng)拓高級(jí)應(yīng)用工程師謝彥龍作了題為《電子半導(dǎo)體制樣技術(shù)及應(yīng)用案例分享》的報(bào)告。

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報(bào)告通過(guò)對(duì)電子半導(dǎo)體制樣技術(shù)的詳細(xì)講解與案例分析,展示了公司在電子半導(dǎo)體制樣技術(shù)的技術(shù)實(shí)力與創(chuàng)新成果,贏得了現(xiàn)場(chǎng)參會(huì)人員的高度贊譽(yù)與熱烈討論。

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領(lǐng)拓展位

本次會(huì)議,領(lǐng)拓團(tuán)隊(duì)還攜帶了DVM6超景深數(shù)碼3D視頻顯微鏡驚喜亮相現(xiàn)場(chǎng),同時(shí)為參會(huì)人員提供了電鏡觀察及前處理、力學(xué)分析、形貌表征及元素分析、粒徑分布、成分分析等半導(dǎo)體分析檢測(cè)方案。

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領(lǐng)拓團(tuán)隊(duì)以他們深厚的專業(yè)知識(shí)和熱情周到的服務(wù),迎接著每一位到訪的客人,向來(lái)自現(xiàn)場(chǎng)人員詳盡地介紹了公司的優(yōu)勢(shì)和產(chǎn)品的實(shí)際應(yīng)用場(chǎng)景。

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領(lǐng)拓儀器時(shí)刻關(guān)注光電子與半導(dǎo)體領(lǐng)域領(lǐng)域的新動(dòng)態(tài)和發(fā)展,通過(guò)強(qiáng)有力的資源整合為高??蒲袉挝缓桶雽?dǎo)體行業(yè)提供光電子與半導(dǎo)體領(lǐng)域分析檢測(cè)解決方案。


參會(huì)設(shè)備

01 Leica DVM6 超景深視頻顯微鏡
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一款多功能視頻顯微鏡,可以用在檢測(cè)分析,質(zhì)量控制,失效分析,研發(fā)產(chǎn)品等領(lǐng)域的測(cè)量分析。集成的照明和復(fù)消色差物鏡確保了高品質(zhì)的圖像??捎肈VM6的支架傾斜功能來(lái)觀察樣品的側(cè)面信息,通過(guò)支架的±60°傾斜,可以對(duì)樣品進(jìn)行360°觀察;利用景深合成可對(duì)特征進(jìn)行3D尺寸的測(cè)量。顯微鏡的編碼功能使得測(cè)量結(jié)果很容易重現(xiàn),報(bào)告和文檔都可以一鍵生成。

02 Leica EM TIC 3X 三離子束切割儀
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可制備橫切面和拋光表面,用于掃描電子顯微鏡 (SEM)、微觀結(jié)構(gòu)分析 (EDS、WDS、Auger、EBSD) 和 AFM 科研工作。一次可處理樣品多達(dá) 3 個(gè), 并可在同一個(gè)載物臺(tái)上進(jìn)行橫切和拋光??砂踩?、高效地將樣品傳輸至后續(xù)的制備儀器或分析系統(tǒng)。


03 Leica EM TXP 精研一體機(jī)
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一款可對(duì)目標(biāo)區(qū)域進(jìn)行準(zhǔn)確定位的表面處理工具,特別適合于SEM,TEM及LM觀察之前對(duì)樣品進(jìn)行切割、拋光等系列處理。它尤其適合于制備高難度樣品,如需要對(duì)目標(biāo)精細(xì)定位或需對(duì)肉眼難以觀察的微小目標(biāo)進(jìn)行定點(diǎn)處理。有了 Leica EM TXP,這些工作就可輕松完成。

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