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450/450-1-融合電極
  • 450/450-1-融合電極

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更新時(shí)間:2025-01-04 21:00:22

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BTX 融合電極由載玻片和不銹鋼電極組成,主要用于動(dòng)物細(xì)胞和原生質(zhì)體的融合、胚胎操作,整個(gè)融合過程可在顯微鏡下觀察。


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BTX融合電極由載玻片和不銹鋼電極組成,主要用于動(dòng)物細(xì)胞和原生質(zhì)體的融合、胚胎操作,整個(gè)融合過程可在顯微鏡下觀察。
BTX 融合電極技術(shù)規(guī)格:電壓范圍0-500V直流電,脈沖時(shí)間1μs-99ms,脈沖數(shù)1-99
兼容性: BLS 細(xì)胞融合儀CF-150B,CF-150C,ECM830,ECM2001

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Meander Fusion Chamber
曲流融合室 特別為細(xì)胞融合設(shè)計(jì)的結(jié)構(gòu),鍍銀的導(dǎo)電性金屬合金以手指狀突起陣列融化在玻璃纖維載玻片上,提供不均勻電場,電極間距為0.2mm,構(gòu)成高精度的工作區(qū)域,建議容量5-20µl。細(xì)胞融合過程可在顯微鏡下觀察,電極可經(jīng)溫和試劑的清洗重復(fù)使用。
技術(shù)規(guī)格:電壓范圍0-480V直流電,0-16V交流電,脈沖時(shí)間1 µsec - 99 msec,脈沖數(shù)1-99
兼容性:ECM2001


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Flat Electrode Chamber  扁平電極 由兩塊平行帶凹槽的長方形不銹鋼壓制于聚砜樹脂中構(gòu)成,既可用于細(xì)胞的電穿孔又可用于細(xì)胞電融合:當(dāng)凹槽電極的兩凹槽相對時(shí),可產(chǎn)生不均勻電場用于細(xì)胞電融合;當(dāng)凹槽的兩個(gè)平端相對時(shí),產(chǎn)生均勻電場用于細(xì)胞電穿孔。電極間距1mm,容積0.5ml。 技術(shù)規(guī)格:電壓范圍0-480V直流電,0-16V交流電

兼容性:ECM830,ECM2001


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