日立紫外清洗設(shè)備ZONESEMⅡ

日立紫外清洗設(shè)備是利用紫外光和臭氧對(duì)樣品表面污染物進(jìn)行清理的前處理設(shè)備，主要針對(duì)樣品表面的有機(jī)污染物，相比等離子清洗更加溫和，對(duì)樣品損傷小。

清洗系統(tǒng):

2種清洗模式

真空清洗和真空儲(chǔ)存

清洗時(shí)間范圍為1min-24h（步幅1min）

真空系統(tǒng):

無油真空系統(tǒng)（隔膜泵9L/min）

3min內(nèi)達(dá)到所需真空度

真空范圍為100-500torr(100步)

清洗倉:

樣品尺寸: 100mm (直徑) x 36mm (高)

適合于各型號(hào)掃描電鏡

有效清理區(qū)域達(dá)100 mm