日立紫外清洗設(shè)備是利用紫外光和臭氧對樣品表面污染物進行清理的前處理設(shè)備，主要針對樣品表面的有機污染物，相比等離子清洗更加溫和，對樣品損傷小。

真空系統(tǒng):

無油真空系統(tǒng)（干泵3.8L/min）

3min內(nèi)達到所需真空度清洗系統(tǒng):

2種清洗模式

真空清洗和真空儲存

清洗時間范圍為1min-30min（步幅1min）

真空系統(tǒng):

樣品桿:

3孔或5孔可選

適合于各型號透射電鏡樣品桿

有效清理區(qū)域直徑3mm