概覽
SilcoNert®2000是非晶硅的化學保護屏障，其進一步官能化以提供可用的最惰性表面。通過應用化學氣相沉積（CVD），SilcoNert®2000非常適用于硫化物，汞，氨或其他活性化合物的痕量級測試精度（<百萬分之一）。
特色與優(yōu)勢
•非視距工藝；所有孔和復雜的幾何形狀都能被涂層
•消除吸附和再測試
•獲得更快的校準
•對結(jié)果充滿信心
SilcoNert® 2000 規(guī)格
基板兼容性*： SS合金，陶瓷，玻璃，鈦及大多數(shù)特殊金屬，TIG / MIG焊 接、真空鎳釬焊區(qū)域
允許溫度范圍*： -210°C ~ + 450°C（惰性氣體），400°C（氧化性氣體）
標準厚度： 100-500 nm
允許接觸的pH值 ： 0-8
潤滑性（摩擦系數(shù)）： 0.7
疏水性（接觸角）： 80°
耐磨性(盤上針法測試磨損率)：14.00（304不銹鋼：13.81）
3