采用單壓縮機(jī)自動(dòng)復(fù)疊制冷技術(shù)，制冷溫度范圍從-150度到-5度，可滿足不同制冷溫度需求。廣泛應(yīng)用于化工、制藥、生化等行業(yè)低溫反應(yīng)領(lǐng)域，3分鐘內(nèi)可制冷至零下120度，制冷速度快，整個(gè)系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng)，低溫運(yùn)行過(guò)程無(wú)吸水，保證冷導(dǎo)熱介質(zhì)的純度，防止冰晶，提高導(dǎo)熱液壽命。真空鍍膜冷凍機(jī)，工作原理和工藝特點(diǎn)

  真空鍍膜冷凍機(jī)的工作原理和工藝特點(diǎn)

　　(1)真空鍍膜工作原理是膜體在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結(jié)晶。由于空氣對(duì)蒸發(fā)的膜體分子會(huì)產(chǎn)生阻力造成碰撞使結(jié)晶體變得粗糙無(wú)光，所以需要在高真空下才能使結(jié)晶體細(xì)密光亮，果如真空度不高結(jié)晶體就會(huì)失去光澤結(jié)合力也很差。

　　(2)中頻設(shè)備需要加冷卻水，原因是它的頻率高電流大。電流在導(dǎo)體流動(dòng)時(shí)有一個(gè)集膚效應(yīng)，電荷會(huì)在電導(dǎo)有表面積，這樣使電導(dǎo)發(fā)熱所以采用中孔管做導(dǎo)體中間加水冷卻。

　　(3)為什么也要用水冷卻？磁控濺射靶在發(fā)射時(shí)會(huì)產(chǎn)生高溫會(huì)使射變形，所以它有一個(gè)水套來(lái)冷卻射。同時(shí)還有一個(gè)重要原因磁控濺射可以被認(rèn)為是鍍膜技術(shù)中突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結(jié)合力好。

　　從更深層次研究電子在非均勻電磁場(chǎng)中的運(yùn)動(dòng)規(guī)律,探討了磁控濺射的更一般原理以及磁場(chǎng)的橫向不均勻性及對(duì)稱(chēng)性是磁約束的本質(zhì)原因。磁控濺射可以被認(rèn)為是鍍膜技術(shù)中突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結(jié)合力好、裝置性能穩(wěn)定。

　　(3)冷水機(jī)是一種水冷卻設(shè)備，能提供恒溫、恒流、恒壓的冷卻水設(shè)備。其工作原理是先向機(jī)內(nèi)水箱注入一定量的水，通過(guò)制冷系統(tǒng)將水冷卻，再由水泵將低溫冷卻水送入需冷卻的設(shè)備，冷凍水將熱量帶走后溫度升高再回流到水箱，達(dá)到冷卻的作用。

　　以上便是今天關(guān)于真空鍍膜冷凍機(jī)的工作原理和工藝特點(diǎn)的全部分享了，希望對(duì)大家今后使用本設(shè)備能有幫助。

真空鍍膜冷凍機(jī)，工作原理和工藝特點(diǎn)

真空鍍膜冷凍機(jī)，工作原理和工藝特點(diǎn)