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氟化鈣晶體

用于UV/VIS/IR應用的光學材料

多年來，Hellma Materials CaF2 一直被用作半導體生產(chǎn)微光刻的光學關鍵材料。CaF2 被確立為投影和照明光學中準分子激光光學器件的行業(yè)標準材料。CaF2 的光學特性使各種高級應用成為可能。

應用

由于其的光學質(zhì)量和在紫外、可見分光光度計和紅外光譜范圍內(nèi)的出色透射率，Hellma Materials CaF2 可用于多種應用：

紅外光學器件

用于天文儀器的光學元件

天基光學器件

顯微鏡光學元件

光譜光學

紫外光學

激光窗口

準分子激光光學器件

顯微光刻光學器件

優(yōu)勢

Hellma Materials 的 Lithotec® CaF2 具有的光學特性：

從深紫外到紅外的高寬帶透射率（130nm 至 8μm）

低折射率 （nd = 1.43384）

低光譜色散 （vd = 95.23）

準分子激光光學器件（157nm、193nm、248nm）具有出色的激光耐久性

合格的高能粒子和輻射耐受性

直徑可達 420mm

氟化鋇VIS/IR光學材料

Hellma Materials BaF2 在高達 12μm 的可見光和紅外光譜范圍內(nèi)具有出色的透射率。

這允許在可見光和紅外雙通道系統(tǒng)中將 BaF2 用作寬帶光學材料，用于可見光和熱成像。

BaF2 的折射率低于許多其他光學材料。這減少了由菲涅耳反射引起的傳輸損耗。

應用

Hellma Materials BaF2 是一種出色的光學材料，適用于可見光和紅外光譜范圍的寬光譜范圍。這使得在復雜的應用中得以利用：

集成VIS通道的熱成像和夜視

用于天文儀器的光學元件

紅外激光光學器件

用于檢測高能γ輻射>5Me的閃爍體

優(yōu)勢

Hellma Materials BaF2 是一種的光學材料：

可見光透射率高，紅外范圍擴展至12μm

低折射率 （nd = 1.47447）

低光譜色散 （vd = 81.61）

直徑可達 360 mm