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傳統(tǒng)光刻工藝與Nanoscribe高速灰度光刻技術(shù)對(duì)比
在計(jì)算成像領(lǐng)域中有一個(gè)重要的分支，即光場(chǎng)成像。而光場(chǎng)成像中的核心光學(xué)元件，即為微透鏡陣列。其材質(zhì)為透明玻璃，表面刻有很多微小的透鏡，組成陣列結(jié)構(gòu)，用來成像。目前比較成熟的制作石英微透鏡的工藝是光刻膠制作圖形配合刻蝕的方法，但該方法存在著各種各樣的問題。
常用的光刻膠制作圖形配合刻蝕的方法在透鏡的設(shè)計(jì)時(shí)需通過掩膜板圖形確定，無法自由調(diào)節(jié)，且成本高，周期長。
不僅如此，由于光刻工藝是制作二維圖形的工藝，對(duì)于制作的透鏡的三維形貌無法直接控制。成像的分辨率極大地受到限制。同時(shí)，通過加熱控制的透鏡陣列的均勻性也無法保證，成品率和重復(fù)率都會(huì)受到影響。
傳統(tǒng)工藝對(duì)于光刻膠的要求很高（需對(duì)紫外光光敏、加熱成拱形、能對(duì)抗氬離子刻蝕等），只有特殊的光刻膠才能同時(shí)滿足這些需求，嚴(yán)重限制了光刻膠選擇范圍。
Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)技術(shù)要點(diǎn)
這項(xiàng)技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動(dòng)態(tài)聚焦定位達(dá)到準(zhǔn)同步，這種智能方法能夠輕松控制每個(gè)掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術(shù)將灰度光刻的性能與雙光子聚合的jing確性和靈活性*結(jié)合，使其同時(shí)具備高速打印，*設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的*要求。