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循環(huán)水冷水機冷卻循環(huán)裝置有哪些特點和注意事項?

閱讀:1366        發(fā)布時間:2023-4-3

冷卻水循環(huán)裝置應用領域:

化學、生物領域:氫氧測定儀、旋轉蒸發(fā)儀、CCD、生物發(fā)酵罐、化學反應器(合成器)等。

材料領域:石墨爐原子原子吸收、等離子光譜儀(ICP)真空鍍膜電鏡、X射線衍射儀、X熒光衍射儀、真空爐、鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導體設備、疲勞試驗機、離子減薄儀、離子束外延設備、氣相外延設備、化學沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等等。

物理領域:激光器(各種型號)、磁場、超導、低溫探頭、各種分子泵以及包括材料領域使用的各種需水冷設備。

醫(yī)療器械:核磁共振、超導磁共振、直線加速器、CT、X光機

廣泛應用于大學物理,材料,化學,生物,醫(yī)學等學院和科研機構,研發(fā)中心及需要冷源場所。

循環(huán)水冷水機冷卻循環(huán)裝置儀器特點

1.先進的制冷技術,質量穩(wěn)定,可靠性高;寬廣的溫度范圍5℃~35℃之間任意調節(jié)。

2.采用微電腦版控制器,操作簡單,多種精度可以選擇(±0.1℃、±0.3℃、±0.5℃、±1℃等),

3.具備手動添加水,適合純凈水/蒸餾水,杜絕二次污。

4.溫度可調,實現(xiàn)全自動智能化控制 系統(tǒng)水溫,超高溫報警,水流,故障信號報警輸出,可定制遠程控制

5、安全保護及指示功能,保證機組安全可靠運行。

6.可接受客戶非標制作,儀器結構,尺寸,流量,溫度精度,壓力等噪音低、控溫精度高

循環(huán)水冷水機冷卻循環(huán)裝置:使用注意事項:

1. 本機切勿使用腐蝕性液體:

2. 連接的電源制式與產品銘牌相符

3. 應確保水位高于盤管

4. 水位高于盤管頂部,以免造成換熱不充分,

5. 為保持設備的工作正常,在設備的進,出風口必須保證有大于50MM以上的通風空間,不得有雜物,垃圾等不允許堵住進出風口。

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