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冷卻水循環(huán)裝置應用領域：

化學、生物領域：氫氧測定儀、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、CCD、生物發(fā)酵罐、化學反應器（合成器）等。

材料領域：石墨爐原子原子吸收、等離子光譜儀（ICP）真空鍍膜電鏡、X射線衍射儀、X熒光衍射儀、真空爐、鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導體設備、疲勞試驗機、離子減薄儀、離子束外延設備、氣相外延設備、化學沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等等。

物理領域：激光器（各種型號）、磁場、超導、低溫探頭、各種分子泵以及包括材料領域使用的各種需水冷設備。

醫(yī)療器械：核磁共振、超導磁共振、直線加速器、CT、X光機

廣泛應用于大學物理，材料，化學，生物，醫(yī)學等學院和科研機構(gòu)，研發(fā)中心及需要冷源場所。

循環(huán)水冷水機冷卻循環(huán)裝置儀器特點

1.先進的制冷技術(shù)，質(zhì)量穩(wěn)定，可靠性高;寬廣的溫度范圍5℃～35℃之間任意調(diào)節(jié)。

2.采用微電腦版控制器，操作簡單，多種精度可以選擇（±0.1℃、±0.3℃、±0.5℃、±1℃等），

3.具備手動添加水，適合純凈水/蒸餾水，杜絕二次污。

4.溫度可調(diào)，實現(xiàn)全自動智能化控制 系統(tǒng)水溫，超高溫報警，水流，故障信號報警輸出，可定制遠程控制

5、安全保護及指示功能，保證機組安全可靠運行。

6.可接受客戶非標制作，儀器結(jié)構(gòu)，尺寸，流量，溫度精度，壓力等噪音低、控溫精度高

循環(huán)水冷水機冷卻循環(huán)裝置：使用注意事項：

1. 本機切勿使用腐蝕性液體：

2. 連接的電源制式與產(chǎn)品銘牌相符

3. 應確保水位高于盤管

4. 水位高于盤管頂部，以免造成換熱不充分，

5. 為保持設備的工作正常，在設備的進，出風口必須保證有大于50MM以上的通風空間，不得有雜物，垃圾等，不允許堵住進出風口。