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RTP機(jī)臺(tái)測(cè)溫儀EX-ET-222

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更新時(shí)間:2025-04-09 11:46:19瀏覽次數(shù):508

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)地類(lèi)別 進(jìn)口 價(jià)格區(qū)間 面議
儀器種類(lèi) 在線(xiàn) 應(yīng)用領(lǐng)域 電子/電池,航空航天
RTP機(jī)臺(tái)測(cè)溫儀EX-ET-222廣泛用于AMAT等公司的快速退火,擴(kuò)散及氧化工藝。

詳細(xì)介紹

主要特點(diǎn)

  • 使用短波進(jìn)行低溫測(cè)量

  • 精密度高, 分辨率達(dá) 0.01 oC , 測(cè)溫精度1.5 oC

  • 測(cè)溫重復(fù)性 0.1 oC , 溫漂不高于 0.1 oC / 年

  • 測(cè)量速度達(dá) 1,000 值 / 秒

  • 數(shù)字/或模擬輸出, 易于集成到控制系統(tǒng)






詳細(xì)說(shuō)明

作為擁有30多年歷史的貴金屬熱電偶行業(yè)先驅(qū)者, BASF已將其溫度測(cè)量技術(shù)專(zhuān)長(zhǎng)應(yīng)用于光學(xué)溫度測(cè)量。 BASF Exactus®紅外溫度傳感器取得了技術(shù)性突破,在非接觸式溫度測(cè)量中表現(xiàn)出了顯著的性能優(yōu)勢(shì)。與其他同類(lèi)產(chǎn)品相比,其靈敏的電子技術(shù)、精密光學(xué)技術(shù)以及利用短波長(zhǎng)測(cè)量低溫的能力使得過(guò)程控制更加嚴(yán)格、精度更高、整體性能更好.

RTP機(jī)臺(tái)測(cè)溫儀EX-ET-222系BASF Exactus®系列產(chǎn)品在控制晶圓之間溫度和薄膜厚度的均勻性方面具有許多優(yōu)勢(shì):高度敏感的電子學(xué)和先進(jìn)的光學(xué)技術(shù)意味著可以用更短波長(zhǎng)的探測(cè)器來(lái)測(cè)量輻射能,這減少了晶圓透射及發(fā)射率造成的誤差。此外,高速測(cè)量和高分辨率確保了控溫和噪聲抑制的優(yōu)異性能, 由此提供了更好的晶圓溫度監(jiān)控和生產(chǎn)工藝。

RTP機(jī)臺(tái)測(cè)溫儀EX-ET-222采用900nm左右的傳感器直連光管連接形式結(jié)合多通道IFM10-EC,最多可實(shí)現(xiàn)10點(diǎn)實(shí)時(shí)測(cè)量和記錄,測(cè)溫范圍覆蓋250-1300℃,精度高達(dá)1.5℃, 重復(fù)性0.1℃??蛇m配AMAT的RTP測(cè)溫系統(tǒng)。

BASF Exactus®系列紅外測(cè)溫設(shè)備已廣泛用于快速退火、快速氧化、薄膜沉積等半導(dǎo)體工藝,并被集成在多家MOCVD設(shè)備以及其他RTP設(shè)備上如:AIXTRON, LPE,Premtek,AMAT等。另外,由于其具有很高的測(cè)溫精度和穩(wěn)定性,也被一些高溫黑體爐廠(chǎng)家作為溫度標(biāo)準(zhǔn)器使用,如Thermogauge公司。

典型應(yīng)用

  • RTP控溫

  • MOCVD控溫

  • MBE控溫

  • 溫度標(biāo)準(zhǔn)器



技術(shù)參數(shù)

測(cè)量參數(shù)
溫度范圍:

250 – 1300℃

工作波長(zhǎng):

約900nm

測(cè)量精度:優(yōu)于1.5℃ 或 0.15%測(cè)值
分辨率:

最高0.01℃

重復(fù)精度:0.1℃
溫度漂移:最大 0.10℃/年
環(huán)境: 0.05℃/℃ @ 20-45℃, 0.10℃/℃ @ 其它溫度
鏡頭:光管
物理參數(shù)
環(huán)境溫度:

電子器件: 10 - 60℃

重量:標(biāo)準(zhǔn)高溫計(jì),0.222 kg
功率:0.75W (電子模塊)







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