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貨物所在地：湖北武漢市
所在地： 武漢東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)金融港四路
更新時間：2024-07-03 16:03:12
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一、概述
IRE-200是一款超高精度的外延層厚度測量設(shè)備，利用紅外光譜經(jīng)傅里葉變換進行快速分析，主要應(yīng)用于Si、GaAs、InP、SiC、GaN等各類外延片的外延層厚度測量。
■ 單拋/雙拋等多種模式選擇支持；
■ 自定義mapping功能；
■ 高檢測速率：Si標準外延片測量25點≤3min；
■ 高檢測精度：≤0.01um 。
二、產(chǎn)品特點
1）設(shè)備采用高性能光源模塊，光源穩(wěn)定性好，信噪比高，覆蓋范圍7800-350cm-1。
2）搭配自主研發(fā)算法軟件，可精準快速地獲取測量結(jié)果。
3) 搭配自主研發(fā)的mapping運動臺，定位精準、測量速度快。
三、產(chǎn)品應(yīng)用
IRE-200廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)中Si、SiC、GaAs、InP、GaN等基底材料上外延層厚度的量測。
SiC EPI量測案例
技術(shù)參數(shù)
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