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　　實驗室鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE 分子束外延，PLD 激光濺射沉積等很多種。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，最終形成薄膜。
 

　　1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。
 

　　2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)等組成。
 

　　3.該設備主機與控制一體化設計，操控方便；結構緊湊，占地面積小。
 

　　4.主要用途：
 

　　1. 開發(fā)納米級單層、多層及復合膜層等。
 

　　2. 制備金屬膜、合金膜、半導體膜、陶瓷膜及介質(zhì)膜等，例：銀、鋁、 銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、氮化鈦、氮化鉻、ITO......
 

　　3. 兩靶單獨濺射、依次濺射、共同濺射。
 

　　5.應用領域：
 

　　1. 高校、科研院所的教學、科研實驗及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實驗及開發(fā)新產(chǎn)品等。
 

　　2. 鈣鈦礦太陽能電池、OLED、OPV 太陽能電池等行業(yè)。