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原位激光過程氣體分析儀GasTDL-3100是基于可調(diào)諧半導體激光吸收光譜技術(shù)（TDLAS）的高性能光學分析儀器，采用對射式設(shè)計，可用于工業(yè)過程氣體控制；其響應(yīng)時間快速，在原位式測量中一般以秒計算，避免采樣式測量帶來的時間延遲，可在線及時的反應(yīng)被測氣體濃度。

原位激光過程氣體分析儀

原位激光過程氣體分析儀GasTDL-3100是基于可調(diào)諧半導體激光吸收光譜技術(shù)(TDLAS)的高性能光學分析儀器，采用對射式設(shè)計，可用于工業(yè)過程氣體控制；其響應(yīng)時間快速，在原位式測量中一般以秒計算，避免采樣式測量帶來的時間延遲，可在線及時的反應(yīng)被測氣體濃度。

原位激光過程氣體分析儀產(chǎn)品特點
·  采用TDLAS技術(shù)，被測氣體不受背景氣體交叉干擾
·  原位安裝，無需采樣預處理系統(tǒng)
·  響應(yīng)快速(T90≤4s)，可實時反應(yīng)氣體濃度
·  實時在線測量，氣體濃度不易失真，測量精度高
·  在高溫、高粉塵、高水分、高腐蝕性、高流速等惡劣測量環(huán)境下具有良好的適應(yīng)性
·  隔爆防爆設(shè)計，安全系數(shù)高
·  構(gòu)造簡潔，無可動元件，無損耗元件，免維護

產(chǎn)品參數(shù)

性能參數(shù)
測量組份	O2、CO、CO2、CH4*
測量原理	TDLAS
測試范圍	O2:(0 ～ 5)%VOL （可定制100%） CO:(0 ～ 100)%VOL CO2:(0 ～ 100)%VOL CH4:(0 ～ 20)%VOL
精度	≤±1%F.S.
重復性	≤±1%F.S.
量程漂移	≤±1%F.S.
分辨率	0.01%VOL
響應(yīng)時間	T90≤4s
工作參數(shù)
防爆等級	Exd II CT6
安裝方式	原位安裝
環(huán)境溫度	（-20～ +60）℃
工作電源	24V DC，24W
吹掃氣體	（0.3～ 0.8）MPa工業(yè)氮氣
接口信號
通訊	RS485、RS232
輸出模式	2路4-20mA輸出 3路繼電器輸出
*注釋：每套分析儀測量單一組分氣體濃度

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