Nanoscope Systems（納茲克股份有限公司） 參加了2021年9月24日至26日在天津濱海新區(qū)舉行的“第十三屆全國顆粒測試學術會議"，本次開會議邀請了國內顆粒測試的專家總結交流顆粒測試方面的最新成果，探討顆粒測試發(fā)展方向與未來趨勢。

本次展品的范圍包括各種類型的激光粒度分析儀、顆粒圖像處理儀、顆粒計數(shù)器、粉體流動性測試儀等等

此次納茲克參加的展品有NS3500系列激光共聚焦顯微鏡，K1-Fluo系列激光熒光共聚焦顯微鏡。

納茲克股份有限公司的海外部長Dicke 在會議上針對激光共聚焦顯微鏡在微納表征中的引用做了詳細的報告。與一般采用激光散射與衍射技術測量顆粒物粒徑的方法不同，激光共聚焦顯微鏡更強調對顆粒實際三維形貌的分析      

 他強調由于中美貿易戰(zhàn)的影響芯片作為一個新興的戰(zhàn)略產(chǎn)業(yè)領域而備受關注。芯片制造是一個非常精密的過程，是民用工業(yè)領域的明珠，雖然在芯片制造方面有著中芯國際等一系列芯片制造公司，但是與5納米制程芯片相比，特別是在半導體制造設備方面仍然有著較大的差距。晶圓是芯片的基底，晶圓質量的高低對芯片的最終性能有著直接的影響。所以對于晶圓的檢測是一個非常重要的環(huán)節(jié)，晶圓表面微觀缺陷的檢測涵蓋了前端制程的每一個環(huán)節(jié)。晶圓表面的缺陷包含：晶圓表面的納米級顆粒物，加工過程中的機械損傷以及本身材料的化學缺陷等。對于半導體晶圓表面納米級顆粒物的檢測是一個非常有挑戰(zhàn)的事，利用激光共聚焦顯微鏡可以對晶圓的表面進行快速無損檢測。探測器只收集焦點處的反射信號，反射信號中包含了大量的信息包括：橫向、縱向、軸向信息、粗糙度波動以及光強等等。通過對反射信號的處理以及圖像的重新構建就可以獲得樣品表面的真實三維圖像信息。目前NS3500已經(jīng)實現(xiàn)了對晶圓表面顆粒物以及劃痕快速檢測技術的突破，可以對晶圓表面進行大范圍拼接獲得晶圓整體的表面三維信息，并且對選出其中有缺陷的部分進行獨立分析。

另外，為了更好的服務大中華區(qū)的客戶，納茲克股份有限公司與國內外多家高校和科研機構設立的聯(lián)合實驗室，并且還在上海設立了獨立的辦事處有專門的人員負責統(tǒng)籌大中華區(qū)的所有商務活動。歡迎后期有興趣的老師聯(lián)系并進行深入的學術交流。"

納茲克科技股份有限公司相信通過這些聯(lián)合實驗室能夠為中國的顆粒學術研究提供更多的幫助。