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產(chǎn)品型號

  VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

主要特點

  1、配置兩個靶槍，一個為配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，一個為配套直流電源用于導電類材料的濺     射鍍膜。

  2、可制備多種薄膜，應用廣泛。

  3、體積小，操作簡便。

技術參數(shù)

  1、電源電壓：220V   50Hz

  2、總功率：2KW

  3、極限真空度：< ?E-6mbar（配合本公司設備使用可達到?E-5mbar）

  4、工作溫度：室溫-500℃，精度±1℃（可根據(jù)實際需要提升溫度）

  5、靶槍數(shù)量：2個（可選配其他數(shù)量）

  6、靶槍冷卻方式：水冷

  7、靶材尺寸：Φ2”，厚度0.1-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同）

  8、直流濺射功率：500W（可選）

  9、射頻濺射功率：300W/500W（可選）

  10、載樣臺：Φ140mm

  11、載樣臺轉(zhuǎn)速：1-20rpm內(nèi)可調(diào)

  12、保護氣體：Ar、N₂等惰性氣體

  13、進氣氣路：質(zhì)量流量計控制2路進氣，每個流量為100SCCM

產(chǎn)品規(guī)格

  主機尺寸：500mm×560mm×660mm，整機尺寸：1300mm×660mm×1200mm；重量：160kg

標準配件

1

  直流電源控制系統(tǒng)

1套

2

  射頻電源控制系統(tǒng)

1套

3

  膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng)

1套

4

  分子泵（德國進口）

1臺

5

  冷水機

1臺

6

  冷卻水管（Φ6mm）

4根

7

  靶材（不銹鋼靶、陶瓷靶）

各1件

可選配件

  金、銦、銀、白金等各種靶材