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VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀
  • VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀

貨物所在地:遼寧沈陽市

更新時間:2025-02-17 08:09:47

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VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備。

 

產(chǎn)品型號

  VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀

主要特點

   1、配置三個靶槍,一個為配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,兩個為配套直流電源用于導電性材料的濺     射鍍膜。(靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調(diào)換)

   2、可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。

  3、體積小,操作簡便。

  4、整機模塊化設(shè)計,真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設(shè)計,可根據(jù)用戶實際需要調(diào)整購買需

    求。

  5、可根據(jù)用戶實際需要選擇電源,可以一個電源控制多個靶槍,也可多個電源單一控制靶槍。

技術(shù)參數(shù)

  1、電源電壓:220V   50Hz

  2、總功率:2.5KW

  3、極限真空度:< ?E-6mbar(配合本公司設(shè)備使用可達到?E-5mbar

  4、工作溫度:室溫-500℃,精度±1℃(可根據(jù)實際需要提升溫度

  5、靶槍數(shù)量:3

  6、靶槍冷卻方式:水冷

  7、靶材尺寸:Φ2,厚度0.1-5mm因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同

  8、直流濺射功率:500W(可選

  9、射頻濺射功率:300W/500W(可選)

  10、載樣臺:Φ140mm

  11、載樣臺轉(zhuǎn)速:1-20rpm內(nèi)可調(diào)

  12、保護氣體:Ar、N2等惰性氣體

  13、進氣氣路:質(zhì)量流量計控制2路進氣,每個流量為100SCCM

產(chǎn)品規(guī)格

 主機尺寸:500mm×560mm×660mm,整機尺寸:1300mm×660mm×1200mm;重量:160kg

標準配件

1

 直流電源控制系統(tǒng)

1

2

 射頻電源控制系統(tǒng)

1

3

 膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng)

1

4

 分子泵德國進口

1

5

 冷水機

1

6

 冷卻水管(Φ6mm

4

7

 靶材(不銹鋼靶、陶瓷靶)

1

可選配件

 金、銦、銀、白金等各種靶材

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