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實(shí)驗(yàn)室CVD設(shè)備的選型思路

閱讀:1398        發(fā)布時(shí)間:2022-5-16


CVD是化學(xué)氣相沉積的簡(jiǎn)稱,是半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用最為廣泛的用來(lái)沉積多種材料的技術(shù),理論上即:兩種或兩種以上的氣態(tài)原材料導(dǎo)入到一個(gè)反應(yīng)室內(nèi),然后他們相互之間發(fā)生化學(xué)反應(yīng),形成一種新的材料,沉積到晶片表面上。所以普通CVD實(shí)驗(yàn)設(shè)備則由三套及以上的設(shè)備組合而成即:高溫爐(提供實(shí)驗(yàn)溫度)+供氣系統(tǒng)(提供多種氣體混合)+真空系統(tǒng)(提供真空實(shí)驗(yàn)環(huán)境)。


化學(xué)氣相沉積(CVD)設(shè)備的靈活度很高,客戶可根據(jù)自己實(shí)驗(yàn)要求選擇合適的產(chǎn)品來(lái)組合,或者直接選擇CVD套裝。


一、高溫爐的選擇

     一般都是選擇管式爐,管式爐為CVD實(shí)驗(yàn)提供材料沉積所需要的溫度。根據(jù)材料的大小,以及實(shí)驗(yàn)需要的溫度選擇合適溫度,合適口徑的管式爐。

二、供氣系統(tǒng)選擇:

     供氣系統(tǒng)即混氣裝置,它可以實(shí)現(xiàn)2種或者2種以上的氣體或者蒸汽按照一定的比例來(lái)混合,然后通入高溫爐中。供氣系統(tǒng)中使用了不同種類的流量計(jì),根據(jù)氣體的性質(zhì)決定。本公司的供氣系統(tǒng)流量計(jì)一般使用了2類,見(jiàn)如下說(shuō)明:


1.氣體流量計(jì):

浮子流量計(jì):氣體通過(guò)普通的浮子流量計(jì)粗略的估計(jì)進(jìn)氣量。

質(zhì)量流量計(jì):氣體通過(guò)D07質(zhì)量流量計(jì)精確控制進(jìn)氣量。


2、氣液混合流量計(jì):

用于液體高溫氣化后導(dǎo)入CVD系統(tǒng)的設(shè)備。


三、真空系統(tǒng)選擇:

      真空系統(tǒng)為CVD實(shí)驗(yàn)提供實(shí)驗(yàn)的真空環(huán)境,將管式爐中的空氣抽走,達(dá)到真空的環(huán)境??蛻舾鶕?jù)自己實(shí)驗(yàn)所需真空度大小及實(shí)驗(yàn)所需清潔程度來(lái)選擇合適的真空裝置。

(1)低真空系統(tǒng)。采用雙級(jí)真空泵,標(biāo)配電阻規(guī)真空計(jì);

(2)高真空系統(tǒng)。采用進(jìn)口分子泵,自帶真空計(jì)或者采用國(guó)產(chǎn)分子泵,自帶真空計(jì)。




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