半導(dǎo)體制造是高度工藝的工藝體系，對環(huán)境參數(shù)的穩(wěn)定性要求較為嚴(yán)苛。chiller制冷機(jī)憑借其穩(wěn)定的熱管理能力，成為半導(dǎo)體制造過程中實(shí)現(xiàn)溫度準(zhǔn)確調(diào)控的重要裝備。

    一、chiller制冷機(jī)組成與硬件配置

    chiller制冷機(jī)主要由溫控主機(jī)、熱媒循環(huán)回路、溫度傳感器、執(zhí)行機(jī)構(gòu)及控制軟件五部分構(gòu)成：

    1、溫控主機(jī)：集成加熱模塊與制冷模塊，可根據(jù)工藝需求提供穩(wěn)定熱源或冷源，其功率輸出范圍需覆蓋半導(dǎo)體工藝的溫度梯度要求。

    2、熱媒循環(huán)回路：采用閉式循環(huán)設(shè)計(jì)，通過循環(huán)泵驅(qū)動(dòng)熱媒在溫控主機(jī)與工藝設(shè)備之間流動(dòng)，實(shí)現(xiàn)熱量的定向傳輸。

    3、溫度傳感器：多采用鉑電阻或熱電偶，部署于工藝設(shè)備關(guān)鍵位置，實(shí)時(shí)采集溫度數(shù)據(jù)并反饋至控制系統(tǒng)，以滿足半導(dǎo)體工藝要求。

    4、執(zhí)行機(jī)構(gòu)：包括流量控制閥、壓力調(diào)節(jié)閥等，用于動(dòng)態(tài)調(diào)整熱媒的流量與壓力，確保熱交換效率的穩(wěn)定性。

    5、控制軟件：搭載專用算法的工業(yè)級控制軟件，負(fù)責(zé)接收傳感器信號、執(zhí)行控制邏輯，并通過人機(jī)界面實(shí)現(xiàn)參數(shù)設(shè)定與狀態(tài)監(jiān)控。

    二、控制邏輯與算法實(shí)現(xiàn)

    chiller制冷機(jī)以模型預(yù)測控制算法為核心，結(jié)合前饋控制與反饋控制機(jī)制，實(shí)現(xiàn)對溫度的動(dòng)態(tài)調(diào)節(jié)：

    1、前饋控制：基于工藝參數(shù)預(yù)先計(jì)算熱負(fù)荷變化，提前調(diào)整加熱/制冷功率，減少溫度波動(dòng)的滯后性。

    2、反饋控制：通過PID算法對實(shí)時(shí)溫度偏差進(jìn)行修正，其中微分環(huán)節(jié)可控制溫度超調(diào)，積分環(huán)節(jié)用于控制穩(wěn)態(tài)誤差。

    三、半導(dǎo)體制造中的典型應(yīng)用場景與技術(shù)挑戰(zhàn)

    1、光刻工序的溫度控制

    光刻是半導(dǎo)體制造中決定圖形精度的關(guān)鍵步驟，光刻機(jī)物鏡組與載物臺的溫度穩(wěn)定性直接影響光刻分辨率。chiller制冷機(jī)通過以下方式保障工藝精度，環(huán)境熱干擾隔離：采用雙層循環(huán)回路設(shè)計(jì)，內(nèi)層熱媒直接控制工藝部件溫度，外層熱媒對設(shè)備外殼進(jìn)行溫度補(bǔ)償，減少外部環(huán)境對光刻區(qū)域的影響。

    2、刻蝕與薄膜沉積工序

    刻蝕和薄膜沉積過程中，腔體溫度影響反應(yīng)物的吸附、解吸及化學(xué)反應(yīng)速率，進(jìn)而影響刻蝕均勻性與薄膜質(zhì)量：

    ①多區(qū)域單獨(dú)控溫：在等離子體刻蝕設(shè)備中，chiller制冷機(jī)對腔體壁、氣體入口等區(qū)域?qū)嵤﹩为?dú)溫度控制。

    ②快速熱響應(yīng)需求：在原子層沉積工藝中，需頻繁切換加熱與冷卻階段，chiller制冷機(jī)通過改變熱媒流量和優(yōu)化制冷回路設(shè)計(jì)滿足快速溫變要求。

    chiller制冷機(jī)通過硬件架構(gòu)、控制算法與適配半導(dǎo)體工藝的熱管理策略，成為保障半導(dǎo)體制造精度與穩(wěn)定性的核心技術(shù)之一。未來，隨著半導(dǎo)體器件向更小尺寸、更復(fù)雜結(jié)構(gòu)發(fā)展，chiller制冷機(jī)需進(jìn)一步提升控溫精度、縮短熱響應(yīng)時(shí)間，并與智能制造系統(tǒng)結(jié)合，為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的技術(shù)升級提供持續(xù)支撐。