19926496030
當前位置：愛安德商貿（深圳）有限公司>>技術文章>>愛安德介紹什么是CMP設備？
愛安德介紹什么是CMP設備？
CMP設備是對硅片進行拋光的設備。 CMP 代表化學機械拋光。半導體的制造規(guī)模非常小，因此需要均勻且高精度的拋光，此外，它們具有許多不同硬度的層，每層都需要使用適當?shù)膲毫Α?/span>磨料
CMP設備主要用于半導體制造工藝。它用于半導體工藝中，以平整因蝕刻、氧化膜生成、離子擴散等引起的表面凹凸。 CMP 提供非常精確的平坦化，并有利于在平坦化表面上進一步分層。選擇CMP設備時，需要考慮平坦化的精度、所使用的化學品和化學品以及硅片的加工速度。
我們將解釋CMP設備的工作原理。 CMP設備通常一次高速加工許多硅片，因此通常是大型設備。其組成部分包括旋轉臺、施加化學物質的噴嘴和砂紙拋光部分等。此外，還有用于傳送硅片的機器人、拋光后的清潔部分和檢測部分等。
基本操作是從噴嘴將化學溶液或化學品噴射到硅片上，將砂紙等壓在硅片上，并通過高速旋轉旋轉臺進行拋光?；瘜W拋光目標包括氧化膜、鎢布線和銅布線。在氧化膜的情況下，將氧化膜溶解在堿性溶液中并用相同組成的氧化硅進行拋光。對于鎢布線來說，鎢表面經(jīng)過氧化，表面用氧化硅拋光。對于銅布線，將銅氧化后，制成復合物，并用氧化硅進行拋光。
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
以上信息由企業(yè)自行提供，信息內容的真實性、準確性和合法性由相關企業(yè)負責，化工儀器網(wǎng)對此不承擔任何保證責任。
溫馨提示：為規(guī)避購買風險，建議您在購買產品前務必確認供應商資質及產品質量。
