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干法刻蝕的原理

2025-3-21  閱讀(176)

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干法刻蝕中的等離子體


干法刻蝕工藝是利用氣體中陰陽粒子解離后的等離子體來進(jìn)行刻蝕的。所謂的等離子體,宇宙中99%的物質(zhì),均處于等子狀態(tài)。其中包含了中性的粒子、離子和電子,它們混合在一起,表現(xiàn)為電中性。在干法刻蝕中,氣體中的分子和原子,通過外部能量的激發(fā),形成震蕩,使質(zhì)量較輕的電子脫離原子的軌道與相鄰的分子或原子碰撞,釋放出其他電子,在這樣的反復(fù)過程中,最終形成氣體離子與自由活性激團(tuán)。而干法刻蝕,則利用了氣體等離子體中的自由活性激團(tuán)與離子,與被刻蝕表面進(jìn)行反應(yīng),以此形成最終的特征圖形。


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