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SHINKO SEIKI神港--電弧絲式離子鍍裝置(AF-IP裝置)

2024-10-31  閱讀(319)

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SHINKO SEIKI神港--電弧絲式離子鍍裝置(AF-IP裝置)


這是一種新型離子鍍?cè)O(shè)備,利用PVD實(shí)現(xiàn)了過(guò)去只能利用CVD才能實(shí)現(xiàn)商業(yè)化的膜類(lèi)型(厚氧化膜、碳化膜等) 。


“電弧燈絲型離子鍍裝置"通過(guò)蒸發(fā)粒子與蒸發(fā)源上的熱電子碰撞,有效地使蒸發(fā)粒子離子化。此外,
通過(guò)引入的氣體與電離的蒸發(fā)顆粒之間的反應(yīng),
可以形成各種致密且高粘附性的反應(yīng)膜(氮化物膜、氧化物膜、碳化物膜、碳氮化物膜) 。


現(xiàn)在可以形成厚的氧化膜,這對(duì)于傳統(tǒng)的電弧放電離子鍍?cè)O(shè)備來(lái)說(shuō)是困難的。可以使用電弧絲型離子鍍?cè)O(shè)備形成的新型PVD薄膜預(yù)計(jì)將用于
精密模具和半導(dǎo)體制造設(shè)備零件等許多應(yīng)用。

對(duì)應(yīng)膜種類(lèi)
氧化膜 氧化釔 (Y2O3) *新開(kāi)發(fā)膜
    氧化鋁 (Al2O3) *新開(kāi)發(fā)膜
碳化物膜 SiC *新開(kāi)發(fā)膜
氮化物膜 TiN
    CrN
其他各種金屬及反應(yīng)膜

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