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曝光設(shè)備原理

2024-11-14  閱讀(359)

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我們將解釋曝光設(shè)備的測量原理。曝光設(shè)備由光源、偏光鏡、光掩模、聚光鏡、工作臺、傳送硅片的機械手等組成。

鏡頭和光掩模的設(shè)計精度高,平臺的運行精度也很高。操作過程中,曝光目標精確固定在載物臺上。在操作中,每次曝光時載物臺都會移動,在曝光的物體上創(chuàng)建大量圖案。

從光源發(fā)出短波長的強光,偏光透鏡調(diào)整光的方向,然后照射到光掩模上,光掩模是配置電路圖案的原型。穿過光掩模的光被聚光透鏡聚焦,并在曝光的目標上描繪出非常小的電路圖案。

一旦整個曝光目標被曝光,它就會被機器人或其他設(shè)備運輸。根據(jù)產(chǎn)品的不同,曝光目標會滲透到液體中,有些產(chǎn)品的設(shè)計旨在實現(xiàn)更準確的曝光。


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