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九所科技PECVD實驗設(shè)備廠家定制定做

參  考  價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號JS-PECVD-D12111H-5QG

品       牌九所科技

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地天津市

更新時間:2025-03-04 16:48:26瀏覽次數(shù):141次

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產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 應(yīng)用領(lǐng)域 化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子/電池,電氣
PECVD設(shè)備是一種利用等離子體技術(shù)來促進化學(xué)反應(yīng)的設(shè)備,具有高沉積速率、高均勻性和高附著力等特點,能夠制備出高質(zhì)量、高性能的薄膜材料。應(yīng)用領(lǐng)域包括但不限于光伏產(chǎn)業(yè)、顯示器制造、半導(dǎo)體制造、光學(xué)領(lǐng)域、生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域等。九所科技生產(chǎn)的PECVD設(shè)備采用高純石英原件,具有出色的高熱穩(wěn)定性,且具有完善的安全保護功能,能夠有效地防止實驗過程中意外情況的發(fā)生。根據(jù)客戶需求進行擴展和升級,滿足不同領(lǐng)域的研究需求

九所科技PECVD實驗設(shè)備廠家定制定做


九所科技PECVD實驗設(shè)備廠家定制定做

 PECVD設(shè)備是一種利用等離子體技術(shù)來促進化學(xué)反應(yīng)的設(shè)備,PECVD設(shè)備的工作原理基于化學(xué)氣相沉 積(CVD),但通過引入等離子體能量,可以提高 反應(yīng)速率、降低反應(yīng)溫度、改變薄膜成分和結(jié) 構(gòu) ,以 及 增 強 薄 膜 的 附 著 力 和 致 密 性 。在 PECVD過程中,使用低氣壓下的低溫等離子體 在沉積室的陰極觸發(fā)輝光放電,或通過其他加 熱裝置將樣品加熱至設(shè)定溫度,并引入特定量 的工藝氣體。這些氣體在等離子體的作用下進 行多種化學(xué)反應(yīng),最終在樣品表面生成一層固態(tài)薄膜。滿足不同領(lǐng)域的研究需求。

 



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