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鈣鈦礦旋涂儀應(yīng)用：在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有...

旋涂儀應(yīng)用：在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)。應(yīng)...

桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)將溶液涂覆在硅片、FTO、ITO、石英、陶瓷等基片上形成薄膜，主要應(yīng)用于鈣鈦礦電池和光刻膠涂敷成膜等領(lǐng)域。主要應(yīng)用于4、6寸樣品。該款可為客戶提...

針筒式旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)MSC-200T-D桌上型半自動(dòng)旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)用于對均勻性和一致性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液自動(dòng)涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰...