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Otsuka大塚多通道光譜儀產(chǎn)品信息 特長 應用廣泛的測量儀。 以高機型MCPD-9800為首，一共有3種對應12波長領域的測量儀。 我們可以根據(jù)客戶的需求和用...

Otsuka大塚彩色光刻膠測量裝置易使用產(chǎn)品信息 特點 以透過光譜測量、色測量為代表，通過濃度測量、膜厚測量、反射光譜測量等，可對應彩色濾光片制造工程中的所有檢...

Otsuka大塚彩色濾光片測量裝置 易使用產(chǎn)品信息 特點 以透過光譜測量、色測量為代表，通過濃度測量、膜厚測量、反射光譜測量等，可對應彩色濾光片制造工程中的所有...

Otsuka大塚 液晶層間隙量測設備易使用產(chǎn)品信息 特 點 采用了偏光光學系和多通道分光檢出器 有可對應各種尺寸的裝置，從1mm大小的光學素子到第10代的大型基...

Otsuka大塚彩色濾光片測量裝置 精度高產(chǎn)品信息 特點 以透過光譜測量、色測量為代表，通過濃度測量、膜厚測量、反射光譜測量等，可對應彩色濾光片制造工程中的所有...

Otsuka大塚彩色濾光片測量裝置 測量精度高產(chǎn)品信息 特點 以透過光譜測量、色測量為代表，通過濃度測量、膜厚測量、反射光譜測量等，可對應彩色濾光片制造工程中的...

Otsuka大塚彩色濾光片測量裝置產(chǎn)品信息 特點 以透過光譜測量、色測量為代表，通過濃度測量、膜厚測量、反射光譜測量等，可對應彩色濾光片制造工程中的所有檢查的裝...

Otsuka大塚彩色濾光片測量裝置 產(chǎn)品信息 特點 以透過光譜測量、色測量為代表，通過濃度測量、膜厚測量、反射光譜測量等，可對應彩色濾光片制造工程中的所有檢查的...

Otsuka大塚彩色光刻膠測量裝置 測量精度高產(chǎn)品信息 特點 以透過光譜測量、色測量為代表，通過濃度測量、膜厚測量、反射光譜測量等，可對應彩色濾光片制造工程中的...

Otsuka大塚彩色光刻膠測量裝置精度高產(chǎn)品信息 特點 以透過光譜測量、色測量為代表，通過濃度測量、膜厚測量、反射光譜測量等，可對應彩色濾光片制造工程中的所有檢...

Otsuka大塚彩色光刻膠測量裝置高精度產(chǎn)品信息 特點 以透過光譜測量、色測量為代表，通過濃度測量、膜厚測量、反射光譜測量等，可對應彩色濾光片制造工程中的所有檢...

Otsuka大塚彩色光刻膠測量裝置產(chǎn)品信息 特點 以透過光譜測量、色測量為代表，通過濃度測量、膜厚測量、反射光譜測量等，可對應彩色濾光片制造工程中的所有檢查的裝...

Otsuka大塚彩色光刻膠測量裝置 產(chǎn)品信息 特點 以透過光譜測量、色測量為代表，通過濃度測量、膜厚測量、反射光譜測量等，可對應彩色濾光片制造工程中的所有檢查的...

Otsuka大塚 ZETA電位·粒徑·分子量測試系統(tǒng)ELSZ series的高級機型，除了在稀薄溶液~濃厚溶液中進行zeta電位（Zeta ...

Otsuka大塚ZETA電位·粒徑·分子量測試系統(tǒng)ELSZ series的高級機型，除了在稀薄溶液~濃厚溶液中進行zeta電位（Zeta P...

Otsuka大塚液晶層間隙量測設備產(chǎn)品信息 特 點 采用了偏光光學系和多通道分光檢出器 有可對應各種尺寸的裝置，從1mm大小的光學素子到第10代的大型基板 安全...

Otsuka大塚 液晶層間隙量測設備產(chǎn)品信息 特 點 采用了偏光光學系和多通道分光檢出器 有可對應各種尺寸的裝置，從1mm大小的光學素子到第10代的大型基板 安...

Otsuka大塚分光干涉式晶圓膜厚儀易使用即時檢測 WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于減薄制程中的厚度變化 (強酸環(huán)境中) 產(chǎn)品特色 非接觸式、非破壞...

Otsuka大塚 分光干涉式晶圓膜厚儀 體積小即時檢測 WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于減薄制程中的厚度變化 (強酸環(huán)境中) 產(chǎn)品特色 非接觸式、非...

Otsuka大塚 分光干涉式晶圓膜厚儀即時檢測 WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于減薄制程中的厚度變化 (強酸環(huán)境中) 產(chǎn)品特色 非接觸式、非破壞性光...