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讓您深入了解分析領(lǐng)域?qū)υ庸庾V的動態(tài)、儀器操作、維護維修、應(yīng)用開發(fā)，以及零配件的訂購

美國PerkinElmer公司將于2010 年10月在湖北宜昌組織召開原子光譜（AA, ICP 和 ICP-MS）用戶會，屆時，將有 PerkinElmer 公司的應(yīng)用專家做報告，同時邀請多名國內(nèi)專家學者與會介紹實際應(yīng)用經(jīng)驗，會期5天。本次會議對了解分析領(lǐng)域的動態(tài)、儀器操作、維護維修、應(yīng)用開發(fā)，以及零配件的訂購有重要的指導作用。務(wù)請貴單位派相關(guān)技術(shù)人員參加。

同時我們也希望廣大用戶踴躍投稿，出席此次大會并就共同關(guān)心的問題進行研討。您提交的論文將在專家組審稿后收錄在會議文集中, 會議印刷論文集，PerkinElmer公司將對用戶投稿給予一定金額的獎勵。

征稿截止日期為2010年9月30日，屆時我們將發(fā)布第二輪通知。請登錄中文了解動態(tài)。

現(xiàn)將具體事宜通知如下：

會議時間：2010年10月25日－29日（周一到周五）
會議地點：湖北宜昌
會議費：RMB1800.00元（含食宿費，并由會務(wù)組統(tǒng)一安排）

報名請點擊
  

如有具體問題請垂詢大會組委會會務(wù)組：

有關(guān)會議通知回執(zhí)：
請:
陳潔 Jie.Chen@perkinelmer.com : -2212
薛萍 Ping.Xue@perkinelmer.com : -2107 傳真:

有關(guān)會議論文投稿：
請:
楊仁康 yangrk : -2127,