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Nd:YAG和Nd:YVO4激光倍頻成分

來源:江陰韻翔光電技術(shù)有限公司   2017年04月13日 11:52  

Nd:YAG和Nd:YVO4激光2倍頻成分

Nd:YAG和Nd:YVO4激光器的諧波廣泛用于材料加工和測量應用。 此外,Nd:YAG激光器的二次諧波通常用作Ti:藍寶石激光器的泵浦源。 在這些頁面上,我們引入了532nm的光學器件:雙波長反射鏡,分離器,薄膜偏振器和非偏振分束器,還包括不同配置的緊湊型二極管泵浦激光器的腔體光學器件。 所有設計均按客戶要求計算。

圖1:泵浦波長(808nm)具有高透射率的雙波長腔鏡的反射光譜(a)

和雙波長轉(zhuǎn)向鏡(b)

圖2:來自地面波長的2倍頻的分離器的反射光譜:

(a):HR(0°,1064nm)> 99.9%+ R(0°,532 + 808nm)<3%

(b):HRs + p(45°,532nm)> 99.9%+ Rs + p(45°,808 + 1064nm)<2%

圖3:532nm的薄膜偏振器(a)和非偏振分光鏡(b)的反射光譜,

Rs = Rp = 50±2%(| Rs-Rp | <3%)

用于p偏振光的薄膜偏振器的傳輸可以通過改進的空腔環(huán)形降低設置以高精度測量。

圖4:二次諧波和地波(a)的三次諧波分離器和355nm和532nm雙波長轉(zhuǎn)向鏡的反射光譜(b)

對于紫外光譜范圍內(nèi)諧波的分離器的常規(guī)規(guī)格,請參見本的表格。 請立即與我們分離器或具有其他發(fā)生角度的鏡子。

圖5:1064nm的HR鏡的反射光譜,其也是532nm的輸出耦合器:HR(0°,1064nm)> 99.9%+ R(0°,532nm)= 99%

 

非線性光學晶體上的涂層

非線性光學晶體是變頻的關(guān)鍵要素。 LAYERTEC在晶體上提供各種涂層,如KTP和鈮酸鋰

圖6:532nm和1064nm的KTP上雙重抗反射涂層的反射光譜

 

Nd:YAG和Nd:YVO4激光3倍頻成分

Nd:YAG和Nd:YVO4激光器的3倍頻在材料加工以及測量應用領(lǐng)域以及作為光參量振蕩器的泵浦源方面日益重要。 在這些頁面上,我們引入了355nm的光學器件:單波長鏡和多波長鏡,分離器,薄膜偏振器和抗反射涂層。 所有設計均按客戶要求計算。

圖1:用于法向入射(a)和轉(zhuǎn)向鏡(b)的單波長鏡的反射光譜

圖2:355nm和532nm(a)的雙波長轉(zhuǎn)向鏡的反射光譜

的波長轉(zhuǎn)向鏡為355nm,532nm和1064nm(b)

圖3:來自2倍頻和地面波長的3倍頻分離器的反射光譜:

(a):標準型

(b):對于1064nm的低反射率而特別優(yōu)化的分離器

對于紫外光譜范圍內(nèi)諧波的分離器的常規(guī)規(guī)格,請參見本的表格。

請立即與我們分離器或具有其他發(fā)生角度的鏡子。

圖4:2倍頻和地面波長3倍頻特殊分離器的反射光譜:

(a)氟分離器HR(45°,355nm)> 95%+ Rp(45°,532nm)<2%+ Rs,p(45°,1064nm)<2%

(b)HR(45°,532nm)> 99.8nm + R(45°,355nm)<5%

氟分離器在高功率密度下顯示出延長的使用壽命。

圖5:355nm薄膜偏光片的反射光譜:HR(55°,355nm)> 99%+ Rp(55°,355nm)<5%

可以通過角度調(diào)整來優(yōu)化p偏振光的透射。 將偏振器傾斜±2°將Rp的小值偏移到更長或更短的波長,這可以顯著提高偏振率。

圖6:用于355nm的單波長AR涂層的反射光譜針對AOI = 0°-30°(a)和

在355nm,532nm和1064nm的熔融二氧化硅上的三重波長抗反射涂層。

 

Nd:YAG和Nd:YVO4激光器高次倍頻成分

Nd:YAG和Nd:YVO4激光器的倍頻廣泛用于材料加工和測量應用。 在這些頁面上,我們?yōu)榈谒模?66nm)和第五倍頻(213nm)引入雙波長鏡和隔離器。 所有設計均按客戶要求計算。

圖1:266nm和355nm(a)的雙波長轉(zhuǎn)向鏡的反射反射光譜和來自長波長倍頻和地面波長(b)的四次倍頻的分離器

圖2:來自長波長倍頻和地面波長(b)的五次倍頻(a)轉(zhuǎn)向鏡和五次倍頻分離器的測量反射光譜; CaF2上的氟化涂層

Separator
type

Centre
wavelength

Reflectance at centre
wavelength [%]

Reflectance at the corresponding longer
Nd:YAG wavelengths [%]

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

266nm

355nm

532nm

1064nm

 

 

Rs

Rp

Rs

Rp

Rs

Rp

Rs

Rp

Rs

Rp

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

3rd harmonic

355nm

> 99.7

> 99

 

 

 

 

< 5

< 2

< 10

< 2

4th harmonic

266nm

> 99.7

> 99

 

 

< 5

< 2

< 10

< 2

< 10

< 2

5th harmonic

213nm

> 97

> 93

< 5

< 2

< 10

< 2

< 10

< 2

< 10

< 2

表1:紫外線倍頻分離器的通用規(guī)格

* CaF2上的氟涂層

圖3:來自第四倍頻的二次倍頻的分離器的反射光譜:

(a):HR(0°,532nm)> 99.5%+ R(0°,266nm)<10%(后側(cè)未涂布)

(b):HR(0°,532nm)> 99.9%+ R(0°,266nm)<5%(后側(cè)未涂布)

266nm的組件通常通過電子束蒸發(fā)產(chǎn)生。 這些涂層表現(xiàn)出高的損傷閾值,但可見光譜范圍內(nèi)的反射率限制在> 99.5%(見圖3a)。 近關(guān)于紫外線濺射涂層的研究結(jié)果表明,可以產(chǎn)生在VIS中具有顯著改善的反射率的分離器,其在UV中具有相似的性質(zhì)(參見圖3b)。

圖4:第四和第五倍頻分離器的反射光譜:

對于非偏振光,HRr(45°,266nm)> 98%+ Rr(45°,213nm)<10%

a)為低雜散損耗而優(yōu)化的氧化物涂層(背面未涂層)

b)氟化物涂層,用于高激光誘發(fā)損傷閾值(背面未涂層)

因為氧化鋁的吸收邊緣在這個波長范圍內(nèi)開始,所以在213nm處的五次倍頻是氧化物涂層的關(guān)鍵波長。 對于高功率應用,我們建議根據(jù)ArF準分子激光鏡技術(shù)生產(chǎn)的氟化鈣氟涂層。

 

薄膜偏光鏡

圖5:266nm(a)和213nm(b)的薄膜偏振器的反射光譜:

a)HR(56°,266nm)> 98%+ Rp(56°,266nm)<1%

b)HR(56°,213nm)> 97%+ Rp(56°,213nm)<5%;

請注意,由于上述的失血損失,Tp只有75%左右

磁控濺射使我們能夠為Nd:YAG激光器的第四和第五倍頻提供薄膜偏振器。

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