基材

來(lái)源：江陰韻翔光電技術(shù)有限公司 2017年04月13日 14:51

基材

特殊激光應(yīng)用的基材，如腔環(huán)時(shí)間光譜或EUV鏡的特點(diǎn)是：

Ø•的幾何形狀：

　對(duì)于直徑，厚度，緯度或曲率半徑等幾何特性的公差，請(qǐng)參見(jiàn)我們目錄的第12頁(yè)

Ø• 表面粗糙度

Ø•表面形狀公差

Ø•拋光表面上的缺陷數(shù)量。

ØLAYERTEC已經(jīng)優(yōu)化了所有這些參數(shù)的拋光程序。在下文中，我們展示了使用熔融二氧化硅和氟化鈣實(shí)現(xiàn)的一些突出的成果。

規(guī)格

Ø表面粗糙度

Ø•對(duì)于熔融二氧化硅和氟化鈣的平面基板，RMS - 粗糙度<1.5Å

Ø•平滑彎曲的球形熔融石英表面（取決于直徑和曲率半徑）的相似結(jié)果，

Ø•即使在紫外線(xiàn)范圍內(nèi)，基板的散射損耗也很低：

Øo在248nm處的TS = 2×10 -5（總后向散射）

Ø在193nm處，TS = 5.6×10 -4（總后向散射）和7.5×10 -4（前向散射）

Ø即使在DUV / VUV波長(zhǎng)范圍內(nèi)也適用于低損耗光學(xué)元件

高質(zhì)量拋光熔融石英基板的功率譜密度（PSD）曲線(xiàn)（在FhG IOF Jena進(jìn)行測(cè)量）

高質(zhì)量拋光CaF2基板的3D AFM測(cè)量（在FhG IOF Jena進(jìn)行），均方根粗糙度為0.12nm

表面容差

表面質(zhì)量

Material	ISO 10110 (∅25mm)	Approximay equivalent to MIL-O-13830

Fused Silica	5/1x 0.010 L1x 0.0005	Scratch - Dig 5 - 1
CaF2	5/1x 0.016 L1x 0.0010	Scratch - Dig 10 - 2

相關(guān)產(chǎn)品

凡本網(wǎng)注明“來(lái)源：化工儀器網(wǎng)”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品，未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的，應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用，并注明“來(lái)源：化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者，本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來(lái)源（非化工儀器網(wǎng)）的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé)，不承擔(dān)此類(lèi)作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí)，必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來(lái)源，并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問(wèn)題，請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系，否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。

国产精品视频一区二区三区四,亚洲av美洲av综合av,99国内精品久久久久久久,欧美电影一区二区三区电影