基材
特殊激光應(yīng)用的基材,如腔環(huán)時(shí)間光譜或EUV鏡的特點(diǎn)是:
Ø•的幾何形狀:
對于直徑,厚度,緯度或曲率半徑等幾何特性的公差,請參見我們目錄的第12頁
Ø• 表面粗糙度
Ø•表面形狀公差
Ø•拋光表面上的缺陷數(shù)量。
ØLAYERTEC已經(jīng)優(yōu)化了所有這些參數(shù)的拋光程序。在下文中,我們展示了使用熔融二氧化硅和氟化鈣實(shí)現(xiàn)的一些突出的成果。
規(guī)格
Ø表面粗糙度
Ø•對于熔融二氧化硅和氟化鈣的平面基板,RMS - 粗糙度<1.5Å
Ø•平滑彎曲的球形熔融石英表面(取決于直徑和曲率半徑)的相似結(jié)果,
Ø•即使在紫外線范圍內(nèi),基板的散射損耗也很低:
Øo在248nm處的TS = 2×10 -5(總后向散射)
Ø在193nm處,TS = 5.6×10 -4(總后向散射)和7.5×10 -4(前向散射)
Ø即使在DUV / VUV波長范圍內(nèi)也適用于低損耗光學(xué)元件
高質(zhì)量拋光熔融石英基板的功率譜密度(PSD)曲線(在FhG IOF Jena進(jìn)行測量)
高質(zhì)量拋光CaF2基板的3D AFM測量(在FhG IOF Jena進(jìn)行),均方根粗糙度為0.12nm
表面容差
Fused silica | Plane | λ/20 (633nm) for diameters of 6.35mm … 101.6 mm |
Spherical | λ/10 (633nm) for diameters of 6.35mm … 38.1mm | |
CaF2 | Plane | λ/10 (633nm) for diameters of 12.7mm … 25.4 mm |
λ/4 (633nm) for diameters of 38.1mm … 50.8 mm | ||
Spherical | λ/4 (633nm) for diameters of 12.7mm ... 50.8mm |
表面質(zhì)量
Material | ISO 10110 (∅25mm) | Approximay equivalent to MIL-O-13830 |
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Fused Silica | 5/1x 0.010 L1x 0.0005 | Scratch - Dig 5 - 1 |
CaF2 | 5/1x 0.016 L1x 0.0010 | Scratch - Dig 10 - 2 |
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