主要特點(diǎn):
UIS無(wú)限遠(yuǎn)校正光學(xué)系統(tǒng),提供出色的圖像質(zhì)量;
人機(jī)工程學(xué)的進(jìn)一步改善,使操作更為舒適;
多種高度功能化的附件,能滿足各種檢驗(yàn)需要。
用途:
針對(duì)半導(dǎo)體工業(yè)、硅片制造業(yè)、電子信息產(chǎn)業(yè)、治金工業(yè)開(kāi)發(fā)的,作為工業(yè)顯微鏡使用。可進(jìn)行明暗場(chǎng)觀察、落射偏光、DIC觀察,廣泛用于工廠、研究機(jī)構(gòu)、高等院校對(duì)硅片、電路基板、FPD、精密模具的檢測(cè)分析。
優(yōu)點(diǎn):
配有大移動(dòng)范圍的載物臺(tái)、落射照明器、平場(chǎng)無(wú)限遠(yuǎn)長(zhǎng)工作距離明暗場(chǎng)物鏡、大視野目鏡、圖像清晰,襯度好。
優(yōu)勢(shì):
緊湊的Y型勻設(shè)計(jì),穩(wěn)定且占地??;
新的光路設(shè)計(jì),光效率更高,采用長(zhǎng)壽命鹵素光源;
反射鏡體,可用于明場(chǎng)、簡(jiǎn)易偏光、微分干涉相襯觀察;
顯微鏡本體,反射照明器,物鏡轉(zhuǎn)換器都采用防靜電設(shè)計(jì)(ESD)。
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