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光學(xué)干涉測(cè)量原理及應(yīng)用

來源:上海曼戈斐光學(xué)技術(shù)有限公司   2019年04月02日 15:22  

光學(xué)干涉測(cè)量法作為一種重要的非接觸表面三維形貌測(cè)量手段,具有無損傷、率的特點(diǎn),長(zhǎng)期以來始終是國(guó)內(nèi)外高精度測(cè)量領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)。便攜式光學(xué)表面三維形貌在線檢測(cè)儀就是基于光學(xué)干涉測(cè)量法設(shè)計(jì)的超光滑表面三維形貌檢測(cè)儀器,以解決機(jī)械、微電子、光學(xué)等領(lǐng)域超精密加工元件的高精度在線快速批量檢測(cè)問題,例如超大集成電路晶元、LED藍(lán)寶石襯底等元件的生產(chǎn)檢測(cè),可應(yīng)用在芯片、LED、微機(jī)械、微光學(xué)、航空航天用光學(xué)陀螺、強(qiáng)激光、天文望遠(yuǎn)鏡等生產(chǎn)與科研領(lǐng)域。 由于通用的光學(xué)表面三維形貌檢測(cè)儀體積較大,其光路系統(tǒng)和三維調(diào)整載物臺(tái)是分開的,依靠懸臂結(jié)構(gòu)將二者連接起來。這種結(jié)構(gòu)可獲得較大縱向測(cè)量范圍,但儀器受振動(dòng)和氣流影響很大,穩(wěn)定性不足,需要配以抗振平臺(tái)或采用其他復(fù)雜的抗振措施,這就大大增加了儀器研發(fā)成本。加之采用傳統(tǒng)的測(cè)量臺(tái)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),被測(cè)件置于儀器的干涉測(cè)量物鏡和載物臺(tái)之間,限制了被測(cè)件的橫向尺寸,無法實(shí)現(xiàn)對(duì)大口徑光學(xué)元件表面的檢測(cè)。綜合以上因素,此類儀器只能用于實(shí)驗(yàn)室檢測(cè),無法滿足工業(yè)生產(chǎn)中在線測(cè)量的要求。 本作品采用光路、機(jī)械、電路和軟件算法的一體化和集成化技術(shù),提高了系統(tǒng)穩(wěn)定性和抗干擾能力;采用背測(cè)式技術(shù),打破了被測(cè)件尺寸限制;采用重疊平均移相干涉測(cè)量技術(shù),保證了測(cè)試精度。本作品實(shí)用性強(qiáng),適用范圍廣,具有打破國(guó)外技術(shù)壟斷,實(shí)現(xiàn)技術(shù)創(chuàng)新的特點(diǎn)。 本作品主要研究?jī)?nèi)容及成果包括:使用短相干LED干涉成像技術(shù),提高成像質(zhì)量;依據(jù)干涉條紋對(duì)比度變化選定好的采樣區(qū)間,減小了系統(tǒng)誤差;優(yōu)化了光機(jī)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)和電路控制,提高了系統(tǒng)的便攜性和穩(wěn)定性;使用背測(cè)式結(jié)構(gòu),載物臺(tái)位于物鏡和被測(cè)面之間,從而對(duì)被測(cè)面口徑無尺寸限制;使用了重疊平均移相干涉測(cè)量技術(shù),將干涉測(cè)量精度提高到亞納米量級(jí);開發(fā)了一套集PZT移相、CCD采集和面形計(jì)算分析于一體的軟件,將檢測(cè)時(shí)間壓縮到10秒鐘以內(nèi)。具體研究成果體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面: (1)    短相干光干涉條紋的定位技術(shù) LED短相干光與激光相比具有較短的干涉波列長(zhǎng)度,消除了干涉顯微系統(tǒng)中難以避免的激光散斑干擾,提高了成像質(zhì)量。但干涉波列長(zhǎng)度的減短導(dǎo)致獲取干涉條紋遇到困難,要求被測(cè)表面的定位精度必須接近1微米。本作品在優(yōu)化光路結(jié)構(gòu)基礎(chǔ)上,采用高精度的調(diào)整平臺(tái)來解決這一問題,其調(diào)節(jié)精度達(dá)到亞微米量級(jí),有效調(diào)節(jié)被測(cè)件的三維傾斜和軸向位移,為干涉成像提供保證。 (2)    干涉條紋定域區(qū)間優(yōu)選和移相精度校準(zhǔn) 由于干涉波列長(zhǎng)度的減小,不僅使成像面干涉條紋數(shù)減少,還使干涉條紋對(duì)比度隨光程差增大而迅速衰減,這就給從干涉條紋變化中解調(diào)相位信息帶來了困難。本作品一方面通過設(shè)計(jì)干涉濾光片帶寬,兼顧相干長(zhǎng)度對(duì)短相干光源與干涉條紋對(duì)比度的要求,使得干涉條紋的定域區(qū)間得到優(yōu)化;另一方面通過軟件嚴(yán)格判定PZT移相起始位置和條紋圖像采樣范圍,使條紋采樣集中在干涉零位左右兩個(gè)波長(zhǎng)范圍內(nèi),從而有效解決了對(duì)比度變化導(dǎo)致的系統(tǒng)誤差。 (3)    光路系統(tǒng)和機(jī)械系統(tǒng)集成優(yōu)化設(shè)計(jì) 在通用光學(xué)表面三維形貌檢測(cè)儀中,光路系統(tǒng)、干涉測(cè)量單元精密位移系統(tǒng)和被測(cè)件機(jī)械調(diào)整平臺(tái)由不同的模塊組成,在空間上相互獨(dú)立。這種結(jié)構(gòu)不僅增大了系統(tǒng)的體積,還會(huì)減弱系統(tǒng)的穩(wěn)定性。本作品將光路系統(tǒng)嵌入機(jī)械系統(tǒng)內(nèi)部,使上述三個(gè)分立模塊融為一體,采用光機(jī)電算集成化技術(shù),實(shí)現(xiàn)了儀器的高度集成。從而使得儀器的體積減小、穩(wěn)定性增加,有效抑制了振動(dòng)和氣流等環(huán)境因素的影響。 (4)    背測(cè)式載物臺(tái)設(shè)計(jì)和兩種測(cè)量模式的開發(fā) 在應(yīng)用光機(jī)電算集成化技術(shù)的基礎(chǔ)上,本作品的載物臺(tái)采用背測(cè)式結(jié)構(gòu),即載物臺(tái)位于被測(cè)表面與物鏡之間,物鏡通過載物臺(tái)通光孔檢測(cè)樣品表面形貌信息。同類儀器采用試件非工作面定位測(cè)量方式,這種方式存在重復(fù)性差、穩(wěn)定性低的難題。本作品不僅克服了以上難題,而且打破了對(duì)被測(cè)樣品橫向尺寸的限制。采用正置測(cè)量模式時(shí),完成小口徑元件的檢測(cè);采用倒置模式時(shí),完成大口徑元件的檢測(cè)。 (5)移相算法的優(yōu)化和軟件系統(tǒng)的開發(fā) 本作品采用重疊平均移相干涉算法,保證了亞納米量級(jí)的測(cè)量精度;采用自主開發(fā)的軟件,完成對(duì)PZT相移系統(tǒng)和CCD采集系統(tǒng)的控制,以及檢測(cè)數(shù)據(jù)的分析處理;優(yōu)化軟件控制系統(tǒng),使每次檢測(cè)時(shí)間壓縮到10秒鐘以內(nèi),同時(shí)完善的數(shù)據(jù)評(píng)價(jià)系統(tǒng)為用戶評(píng)價(jià)產(chǎn)品面形質(zhì)量提供了方便。

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