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iCAP TQs ICP-MS功能如此強大,能解決哪些技術難題呢?

來源:賽默飛世爾科技分子光譜   2019年08月01日 13:30  
1、痕量金屬及無機元素雜質(zhì)檢測方案

(1)VPD 溶液的分析

氣相分解- 電感耦合等離子體質(zhì)譜聯(lián)用(VPD-ICP-MS)法,具有業(yè)界所需的檢測限和穩(wěn)定性,測試結果快速可靠,廣泛應用于硅晶片的測試,硅晶片的純度一般要求在99.9999999%以上。

純度要求如此之高,這就到了ICP-MS 大顯身手的時候了!

VPD 樣品中含有高含量的酸和硅基體,并且目標檢測元素的含量通常也非常低,由于基體溶液會產(chǎn)生大量的多原子離子干擾(如表一所示),所以說VPD 溶液的測試是挑戰(zhàn)性的。為了得到更加的結果,干擾的去除是非常必要的,比如使用串接式等ICP-MS,高分辨ICP-MS 和使用碰撞反應池等技術。

 

(2)半導體級異丙醇的分析

異丙醇(IPA)用清洗硅片的溶劑時,會與硅片表面直接接觸,因此,必須控制其痕量金屬雜質(zhì)濃度。采用靈敏高的ICP-MS 技術直接分析IPA 可為IPA 中超痕量分析物(ng ? L-1)提供有用的控制,并避免由樣品制備引起的污染。

ICAP TQs ICP-MS 結合了三重四極桿和冷等離子體技術,該高度靈活的方法實現(xiàn)了半導體行業(yè)分析所需的超痕量背景等效濃度(BEC)和檢測限(LOD)。

校正數(shù)據(jù)

圖 4 顯示了 IPA 中 Li、P、K、Ti、As、Zr 和 Ta 的校正曲線。采用校正標準品在 ng·L-1 級水平范圍內(nèi)測得的校正曲線呈現(xiàn)出優(yōu)異的線性和靈敏度。通過三重四極桿模式和冷等離子體得到改善的干擾去除可實現(xiàn)更具挑戰(zhàn)性分析物的低背景噪聲。

 

2、RoHS 解決方案

賽默飛為RoHS指令中的有害物質(zhì)多溴聯(lián)苯、多溴二苯醚阻燃劑、鄰苯二甲酸酯和多環(huán)芳烴等有害物質(zhì)的測定提供加速溶劑萃?。ˋSE)前處理、氣相色譜(GC)、氣相色譜- 質(zhì)譜聯(lián)用儀(GC-MS)和液相色譜儀(HPLC)等檢測技術,并提供原子吸收光譜儀(AAS)、電感耦合等離子發(fā)射光譜儀(ICP-OES)、電感耦合等離子體- 質(zhì)譜儀(ICP-MS)和離子色譜儀(IC)用于測定鎘、鉛和汞,分離并測定六價鉻。具體詳情可參考《RoHS 指令檢測產(chǎn)品及技術——色譜質(zhì)譜及光譜儀綜合解決方案》或與我們聯(lián)系。

 

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