盤點(diǎn)CVD石墨烯制備常用的方法及使用事項(xiàng)
CVD石墨烯制備研制出來的石墨烯是一種非常特殊的材料,因?yàn)樗哂袑?dǎo)電和透明的優(yōu)點(diǎn)。材料的透明度通常取決于它的電子性能,需要一個帶隙。在正常情況下,透明度和電導(dǎo)率相互排斥,除了一些化合物。在表面上生長的石墨烯可以使石墨烯層的大小達(dá)到或多或少的無限大小并且具有很高的可控性,這使得這些方法可以用于工業(yè)生產(chǎn)。然而,純度并不是很高,這使得這些方法不適用于石墨烯的實(shí)驗(yàn)室研究。
PECVD化學(xué)氣相沉積多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)一款多路質(zhì)量流量計(jì)控制系統(tǒng),其質(zhì)量流量計(jì)和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里,移動柜Z大可以承重1000Lbs,所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時,可將設(shè)備置于移動柜上以節(jié)約空間。

CVD石墨烯制備使用注意事項(xiàng)
石墨烯制備設(shè)備雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa
·當(dāng)爐體溫度高于1000℃時,爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài),爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當(dāng),保持在常壓狀態(tài)進(jìn)入爐管的氣體流量需小于200SCCM,以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊
·石英管的長時間使用溫度<1100℃
·對于樣品加熱的實(shí)驗(yàn),不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進(jìn)氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對樣品加熱,則需時刻關(guān)注壓力表的示數(shù),若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa,必須立刻打開泄氣閥,以防意外發(fā)生(如爐管破裂,法蘭飛出等)
CVD石墨烯制備方法主要有四種:微機(jī)械剝離法、SiC外延生長法、化學(xué)氣相沉積法(CVD)、氧化還原法。CVD石墨烯的制備方法簡單易行,所得石墨烯的質(zhì)量高,可實(shí)現(xiàn)大面積生長,而且易于轉(zhuǎn)移到各種基底上使用,因此該方法廣泛用于石墨烯透明導(dǎo)電膜,以成為制備高質(zhì)量石墨烯的主要方法。
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對其真實(shí)性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。