為符合材料規(guī)范,必須測(cè)試所有事項(xiàng)?,F(xiàn)行規(guī)范已超過許多中端OES光譜儀所能處理的范圍。OES光譜儀對(duì)許多企業(yè)而言遙不可及,可能不適合高產(chǎn)量生產(chǎn)環(huán)境。日立分析儀器的新型OE750便為解決此問題而應(yīng)運(yùn)而生。
介紹OE750:專為全新級(jí)OES分析而設(shè)計(jì)
這款OES光譜儀具有較高的性能,但其購(gòu)買*,運(yùn)行成本合理。目前,是能夠?qū)崿F(xiàn)全新級(jí)OES分析的光譜儀,例如:
- 分析鋼鐵中所有合金、處理、痕量元素、殘余元素和夾雜元素的能力。OE750能提供極低的檢出限,可檢測(cè)含量低于10ppm的銻、硼、鉛、氮、鋅、鉍、硒和碲。
- 符合經(jīng)修訂的ASTM E415中有關(guān)碳鋼和低合金鋼測(cè)試方法和ASTM E1086中有關(guān)不銹鋼分析標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方法的要求。此款分析儀可輕松檢測(cè)含量為10ppm的氮元素。
- 允許鋁壓鑄機(jī)將近共晶和過共晶鋁-硅合金中的磷、銻和鉍的含量控制在極低限值內(nèi)??刂拼祟愒丶捌渌麏A雜元素和痕量元素可確保鋁加工廠對(duì)優(yōu)化熔體結(jié)構(gòu)具備更強(qiáng)的控制能力。
- 輕松檢測(cè)含量為1ppm的廢金屬中的痕量元素,包括鋅。這對(duì)回收汽車部件或分揀來料廢品至關(guān)重要。
- 通過分析氮、氧和氫等氣體元素,控制鈦的生產(chǎn)。
- 分析精煉廠中銅陽(yáng)極以及鑄造廠中黃銅、青銅、錫青銅和其他銅合金的潛力。
- 全面的痕量元素分析,用于支持金屬加工和成型廠所用進(jìn)料的材料可靠性鑒定測(cè)試。
此款光譜儀的這些能力可確保鑄造廠和金屬加工廠*無(wú)需出于成本考量而降低性能標(biāo)準(zhǔn)。對(duì)于鑄造廠、煉鋼廠、金屬制造商和廢金屬?gòu)S而言,OE750以具有成本效益的價(jià)格,提供全新級(jí)OES分析。
高效質(zhì)量控制,符合標(biāo)準(zhǔn)
OE750在同類產(chǎn)品中具有較佳光學(xué)分辨率,并涵蓋金屬中元素的整個(gè)光譜,能提供某些低檢出限。此性能通過構(gòu)思新光學(xué)概念和發(fā)展其他技術(shù)創(chuàng)新而實(shí)現(xiàn),例如新型密封火花臺(tái)和火花放光源。
額外優(yōu)點(diǎn)(例如:?jiǎn)?dòng)速度加快,維護(hù)間隔縮短)確保光譜儀支持高產(chǎn)量生產(chǎn)和100% 的PMI質(zhì)量保證計(jì)劃。
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