TCU制冷加熱循環(huán)裝置是指為反應釜、槽等提供熱源和冷源的循環(huán)裝置，具有加熱和制冷雙功能的實驗室儀器設備。TCU制冷加熱循環(huán)裝置是指導熱介質在封閉的循環(huán)系統(tǒng)中循環(huán)對所需物體進行加熱或者冷卻，也就是所謂建立恒溫場所，主要用于化工、制藥和生物等領域配套玻璃反應釜、旋轉蒸發(fā)儀、發(fā)酵罐、量熱儀；廣泛應用于石油、冶金、醫(yī)藥、生化、物性，測試及化學合成等研究部門、高等院校、工廠實驗室及計量質檢部門。

　　TCU制冷加熱循環(huán)裝置采用PID算法，能夠適用各種環(huán)境、各種設備，控溫準確。設備具有溫度校正功能，比普通溫控器測溫更準確。醒目的控制面板，操作簡單快捷。

　　本地、遠程控制系統(tǒng)（程控型）：

　　可以選擇通過RS232、RS485接口或航空插頭與PC聯(lián)機，通過計算機對設備進行參數(shù)修改和控制，也可以及時地把設備運行的各種參數(shù)傳送給計算機。這些信號都是標準繼電器節(jié)點類型，可以很方便地和聯(lián)機的配套設備進行信息交換，通過聯(lián)機信號，對用戶設備提供保護，有效地提高設備運行的安全性。

　　采用全密閉管道式，采用較板式熱交換器，降低導熱液需求量的同時，提高系統(tǒng)的熱量利用率，達到快速升降溫度。

　　導熱介質在一個密閉系統(tǒng)中，帶有膨脹容器，膨脹容器中的導熱介質不參與循環(huán)。

　　膨脹容器帶有自動冷卻恒溫系統(tǒng)，即使循環(huán)系統(tǒng)中的導熱介質升溫到250度，部分導熱介質膨脹到膨脹容器中，熱量也能帶走，使膨脹容器的溫度始終維持在室溫左右。可以降低導熱介質在運行中吸收水分和揮發(fā)、氧化褐化的風險。提高導熱介質的使用壽命。