OE750以?xún)?yōu)惠合理價(jià)格提供高性能的5種方式
但其如何實(shí)現(xiàn)以?xún)?yōu)惠親民的購(gòu)買(mǎi)價(jià)格提供高性能?日立如何降低光譜儀的運(yùn)行成本?一切答案都?xì)w因于科技:
- 創(chuàng)新的光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)提高性能,并縮短啟動(dòng)時(shí)間
光學(xué)系統(tǒng)是OE750操作的核心,當(dāng)前正針對(duì)這一新光學(xué)概念申請(qǐng)四項(xiàng)專(zhuān)利,其可為光譜儀提供同類(lèi)產(chǎn)品中的佳光學(xué)分辨率。此技術(shù)可確保檢測(cè)所需的一切事物,即使在超低限值的情況下亦可進(jìn)行檢測(cè)。OE750內(nèi)的光學(xué)系統(tǒng)配置經(jīng)過(guò)*的重新設(shè)計(jì)。外殼體積相對(duì)較小,從而縮短啟動(dòng)時(shí)間,確保儀器可更快地被使用。日立已納入更多檢測(cè)器,并將其放在單焦平面上;這一設(shè)計(jì)能提供優(yōu)質(zhì)的分辨率,并能清晰顯示結(jié)果。后,檢測(cè)器本身已經(jīng)過(guò)升級(jí),將在下文進(jìn)行相關(guān)介紹。
- 先進(jìn)的檢測(cè)器技術(shù)成本更低,但性能更好
降低光譜儀成本,但仍可提高性能的關(guān)鍵之處在于檢測(cè)器本身。日立已使用新型CMOS芯片代替舊款CCD檢測(cè)器。CMOS芯片具有更高的分辨率和改進(jìn)的像素尺寸,以及更高的動(dòng)態(tài)范圍。僅使用一個(gè)鍍膜傳感器便可完成通常情況下需要幾個(gè)CCD傳感器才能完成的工作。由此,光譜儀成本有所降低,但與較昂貴的儀器具有同等的高性能。在低檢出限的穩(wěn)定性方面,CMOS檢測(cè)器也優(yōu)于舊款CCD檢測(cè)器,這正是分析ppm含量范圍內(nèi)的金屬時(shí)所需實(shí)現(xiàn)的目標(biāo)。
- 低壓力氬氣凈化降低運(yùn)行成本,減少維護(hù)
標(biāo)準(zhǔn)OES儀器的一個(gè)問(wèn)題是,對(duì)于低于200nm的波長(zhǎng),其光強(qiáng)會(huì)隨時(shí)間推移而減弱,從而導(dǎo)致一些分析分辨率不足。日立已通過(guò)開(kāi)發(fā)中壓力氬氣凈化環(huán)境(一種真空技術(shù)和低壓力氬氣凈化的*組合)*克服此問(wèn)題,即使在150nm以下的波長(zhǎng)情況下也可提高穩(wěn)定性和強(qiáng)度。該系統(tǒng)能減少所需氬氣量,并允許使用僅在某些時(shí)候才可被使用的無(wú)油泵。泵的功耗降低,而維護(hù)和校準(zhǔn)間隔大幅增加,從而增加儀器的可用性,并降低運(yùn)行成本。
- 改進(jìn)火花光源,以提高效率和穩(wěn)定性
日立也重新設(shè)計(jì)了火花光源。舊款光譜儀的此部件耗用大量功率以產(chǎn)生火花,且電源的任何波動(dòng)均會(huì)改變火花特性,從而可能影響結(jié)果可靠性。日立進(jìn)行創(chuàng)新,設(shè)計(jì)了開(kāi)創(chuàng)性的OE750。通過(guò)提高火花源的效率,實(shí)現(xiàn)耗用較少功率和產(chǎn)生較少熱量的目標(biāo)。此款光譜儀中還新添了能提高火花可靠性和再現(xiàn)性的功能,例如,24V直流電源將火花與本地電源電壓隔離,以使本地電源的波動(dòng)不會(huì)影響光譜儀的性能。
- 新密封火花臺(tái)改進(jìn)檢出限,并減少維護(hù)
在新設(shè)計(jì)中,火花臺(tái)和光學(xué)系統(tǒng)實(shí)質(zhì)上是一個(gè)密封單元。這是在寬波長(zhǎng)范圍內(nèi)獲得一致低檢出限和性能的方法。這是金屬中氣體分析的強(qiáng)制性要求,例如,鋼鐵中的氮元素的檢出限為10ppm。密封單元設(shè)計(jì)確保空氣和微粒無(wú)法進(jìn)入火花臺(tái)和光學(xué)系統(tǒng)區(qū)域,從而大限度減少分析干擾。同時(shí)入射狹縫和透鏡之間的距離非常短,從而大幅改善光耦合。外殼專(zhuān)為透鏡周?chē)鷼鍤獾膬?yōu)層流而設(shè),再次減少所需氬氣量。此外,密封單元能減少維護(hù)需求,確保獲得更長(zhǎng)的正常運(yùn)行時(shí)間和更好的結(jié)果。
無(wú)需降低性能標(biāo)準(zhǔn)
此性能可確保符合嚴(yán)格規(guī)范,檢測(cè)廢料中的雜質(zhì)和痕量元素,并以當(dāng)今金屬行業(yè)要求的超低限值驗(yàn)證來(lái)料。
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