紫外線照射后產(chǎn)生的熒光是一種特殊形態(tài)的冷光。當(dāng)熒光分析的電子吸收了光子后能量提高，但是這種狀態(tài)并不穩(wěn)定，它會馬上變回初始狀態(tài)并把吸收的能量再次釋放出來，發(fā)出熒光。由于部分能量轉(zhuǎn)化成熱量消耗了，所以發(fā)出的光線能量降低，波長也變長了。

　　由于玷污物的熒光特性，通過一個含紫外光波的LED燈照射，清潔度分析系統(tǒng)即可探測出玷污物。儀器探頭里的光電二極管負(fù)責(zé)測量UV熒光的強度。UV熒光越強表示污染程度越大，反之則越潔凈。

　　組件與零部件的清潔對于生產(chǎn)工藝十分重要。對于開發(fā)、制造、批量生產(chǎn)和成品質(zhì)量控制的所有流程，滿足對常見微觀尺寸污染物和異物顆粒的計數(shù)、分析和分類的高標(biāo)準(zhǔn)要求是非常重要的。

　　由于顆粒污染物對于零部件的使用壽命存在直接影響，和國家指令對于確定重要機械部件顆粒物污染的方法和存檔要求均有表述。此前，使用殘留顆粒物的質(zhì)量來描述殘留物特征。

　　當(dāng)前使用的標(biāo)準(zhǔn)對諸如顆粒物數(shù)量、顆粒物尺寸分布以及顆粒物特征等污染屬性提出了更詳細(xì)的信息要求

　　對于平常清潔過程中的玷污物，SITA清潔度分析儀的參數(shù)已經(jīng)設(shè)計得盡可能合適。對于特殊的檢驗要求，它也可能適合LED的波長。

　　由于有機物被UV光激發(fā)后具有很強的自體熒光特性，因此儀器能夠檢查出油、油脂和殘余表面活性劑的玷污物。此外，它也可能用于檢查腐蝕或者已知厚度的蠟層。

　　清潔度分析系統(tǒng)的測量原理是共焦法，即激發(fā)光線和被激發(fā)而產(chǎn)生的光線在同一平行輻射軌跡上。因此，探頭的靈活定位和在線測量都易于實現(xiàn)?；谶@種測試原理，對于構(gòu)成中不含或者含有輕微熒光性原料的零件，儀器都可以檢測其清潔度。