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試樣拋光：
試樣拋光的目的是為了除去試樣磨面上留下的磨痕，得到似鏡面的表面，為顯示組織做好準備。理想的拋光面應是平滑光亮、無劃痕、無浮雕、無塑性變形層和不脫落非金屬夾雜物。
金相試樣的拋光方法按其作用本質劃分，常見的有一下幾種：
試樣拋光 ：機械拋光、化學拋光、電解拋光、綜合拋光（機械化學拋光、機械電解拋光）
金相試樣終顯示前的品質是由拋光品質決定的，而拋光前試樣磨面表面磨制及產生變形層的情況又直接影響拋光品質。因此在進行拋光工作以前，必須對磨面進行檢查，如果在磨面上還留下有較深磨痕，即使這些深磨痕為數(shù)極少，在拋光過程中也是難于去除的。在這樣的情況下，應重新對試樣磨光，使在磨面上只留下單一方向的均勻的細磨痕及較淺的變形層時，才能進行拋光。
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