集結(jié)技術(shù)，突破核心 | 賽默飛助力集成電路行業(yè)發(fā)展

關(guān)注我們，更多干貨和驚喜好禮7月28日，賽默飛世爾科技聯(lián)合上海市計(jì)量測(cè)試技術(shù)研究院電子化學(xué)品平臺(tái)在上海共同舉辦“集結(jié)技術(shù)，突破核心——2020年集成電路行業(yè)發(fā)展與分析技術(shù)研討會(huì)”圓滿結(jié)束。業(yè)內(nèi)一線專業(yè)大咖及行業(yè)技術(shù)精英100余人共同探討集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展的挑戰(zhàn)與機(jī)遇，一覽前沿創(chuàng)新技術(shù)，探索突破核心方案。

集結(jié)技術(shù) 一覽重磅大咖的行業(yè)深度

集成電路是信息產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)，是構(gòu)筑大國(guó)競(jìng)爭(zhēng)力的核心產(chǎn)品。如何在多變市場(chǎng)環(huán)境下逆勢(shì)上揚(yáng)，突破關(guān)鍵核心技術(shù)，維護(hù)產(chǎn)業(yè)鏈安全，確保供應(yīng)鏈完整，已成為國(guó)家在產(chǎn)業(yè)布局方面的重要戰(zhàn)略考量。

本次研討會(huì)有幸邀請(qǐng)到上海市計(jì)量測(cè)試技術(shù)研究院電子化學(xué)品平臺(tái)的資深專家，以及來自上海，峨眉和青海的半導(dǎo)體檢測(cè)專家，為在場(chǎng)的與會(huì)者分享寶貴經(jīng)驗(yàn)。

五位專家提及的不論是實(shí)驗(yàn)室的檢測(cè)操作需求，還是集成電路的檢測(cè)發(fā)展趨勢(shì)，對(duì)分析儀器有穩(wěn)定可靠，智能靈活，適應(yīng)性強(qiáng)，信息量大等需求。對(duì)此，賽默飛可根據(jù)客戶需求，提供完善解決方案。

突破核心  賽默飛集成上下游的分析檢測(cè)方案

差異化方案

賽默飛完善的產(chǎn)品組合滿足產(chǎn)業(yè)鏈從無機(jī)到有機(jī)ppt級(jí)分析要求

Dionex ICS-6000 HPIC高壓離子色譜系統(tǒng)：*半導(dǎo)體中ppt 級(jí)超純水、ppb 及ppm 級(jí)高純?cè)噭┲泻哿筷庩?yáng)離子雜質(zhì)以及% 級(jí)混酸含量測(cè)定等分析對(duì)儀器耐用性和快速分析性能要求。

iCAP™ TQ ICP-MS: 可實(shí)現(xiàn)低至1ppt無機(jī)雜質(zhì)元素分析。標(biāo)配4路碰撞反應(yīng)氣體，*消除多原子離子干擾；標(biāo)配有機(jī)加氧裝置，可直接分析半導(dǎo)體行業(yè)的有機(jī)試劑。

GC1300氣相色譜，ISQ7000單四極桿氣質(zhì)聯(lián)用儀：用于半導(dǎo)體中超潔凈室中超痕量VOCs的監(jiān)測(cè)、電子特氣痕量雜質(zhì)分析等應(yīng)用需求，滿足靈敏度、穩(wěn)定性及可靠性的要求。

前瞻性技術(shù)

借助Element 2 HR-ICP-MS和Element GD Plus GD-MS高分辨能力（高分辨率可達(dá)10000），可區(qū)分質(zhì)量數(shù)小于0.01 amu的質(zhì)譜干擾，真正實(shí)現(xiàn)無干擾分析，并減少?gòu)?fù)雜的樣品制備和方法開發(fā)過程。

Element XR HR-ICP-MS高分辨電感耦合等離子體質(zhì)譜儀：高純?cè)噭?、高純材料、高純氣體中痕量元素準(zhǔn)確定量。

兼容性

賽默飛變色龍軟件可以兼容市面上幾乎絕大多數(shù)的色譜分析類產(chǎn)品，從而使用戶更容易上手不同的設(shè)備，如賽默飛變色龍軟件可以直接控制熱脫附產(chǎn)品；除此之外，賽默飛的設(shè)備也可以與在線集成商合作，從而實(shí)現(xiàn)在線IC、在線ICPMS等在線實(shí)時(shí)監(jiān)控的成熟方案。

Element GD Plus GD-MS 輝光放電質(zhì)譜儀：高純固體樣品直接分析，大化減少樣品處理步驟，降低沾污風(fēng)險(xiǎn)。

兼容性

賽默飛變色龍軟件可以兼容市面上幾乎絕大多數(shù)的色譜分析類產(chǎn)品，從而使用戶更容易上手不同的設(shè)備，如賽默飛變色龍軟件可以直接控制熱脫附產(chǎn)品；除此之外，賽默飛的設(shè)備也可以與在線集成商合作，從而實(shí)現(xiàn)在線IC、在線ICPMS等在線實(shí)時(shí)監(jiān)控的成熟方案。

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