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光譜橢偏儀是一種用于探測(cè)薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)以及材料微結(jié)構(gòu)特性的光學(xué)測(cè)量設(shè)備，是隨著現(xiàn)代科技的發(fā)展而迅速發(fā)展起來(lái)的光學(xué)無(wú)損檢測(cè)方法?？蓽y(cè)的樣品包括大塊材料、薄膜以及在平面基底上生長(zhǎng)或沉積的多層結(jié)構(gòu)。多層固體、液體、與固體相鄰的液體以及與固體接觸的氣相等離子體的特性等都可以用這一技術(shù)來(lái)探測(cè)。由于與樣品非接觸，對(duì)樣品沒(méi)有破壞并且不需要真空，使得橢偏儀成為一種具有吸引力的探測(cè)設(shè)備。它已越來(lái)越廣泛的用于介電、半導(dǎo)體、金屬、有機(jī)物等各種材料的光學(xué)特性、結(jié)構(gòu)特征、生長(zhǎng)過(guò)程和材料質(zhì)量的快速測(cè)試與研究。此光譜橢偏儀是當(dāng)今國(guó)際上一種紅外波段、單色儀分光形式的橢圓偏振光譜儀，它具有高準(zhǔn)確度，高精度和比基于紅外傅里葉光譜儀的橢偏光譜儀便宜得多等優(yōu)點(diǎn)。
光譜范圍：
最初，橢偏儀的工作波長(zhǎng)多為單一波長(zhǎng)或少數(shù)獨(dú)立的波長(zhǎng)，最典型的是采用激光或?qū)﹄娀〉葟?qiáng)光譜光進(jìn)行濾光產(chǎn)生的單色光源。大多數(shù)的橢偏儀在很寬的波長(zhǎng)范圍內(nèi)以多波長(zhǎng)工作。和單波長(zhǎng)的橢偏儀相比，光譜型橢偏儀有下面的優(yōu)點(diǎn)：可以提升多層探測(cè)能力，可以測(cè)試物質(zhì)對(duì)不同波長(zhǎng)光波的折射率等。
橢偏儀的光譜范圍在深紫外的142nm到紅外33um可選。光譜范圍的選擇取決于被測(cè)材料的屬性、薄膜厚度及關(guān)心的光譜段等因素。例如，摻雜濃度對(duì)材料紅外光學(xué)屬性有很大的影響，因此需要能測(cè)量紅外波段的橢偏儀；薄膜的厚度測(cè)量需要光能穿透這薄膜，到達(dá)基底，然后并被探測(cè)器檢測(cè)到，因此需要選用該待測(cè)材料透明或部分透明的光譜段；對(duì)于厚的薄膜選取長(zhǎng)波長(zhǎng)更有利于測(cè)量。
應(yīng)用：
應(yīng)用領(lǐng)域：半導(dǎo)體、微電子、MEMS、通訊、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、光學(xué)鍍膜、平板顯示器、科學(xué)研究、物理、化學(xué)、生物、醫(yī)藥等；
可測(cè)材料：半導(dǎo)體、介電材料、有機(jī)高分子聚合物、金屬氧化物、金屬鈍化膜、自組裝單分子層、多層膜物質(zhì)和石墨烯等等。
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