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等離子清洗是一種非破壞性的表面處理技術，通過能量轉換技術在一定負壓狀態(tài)下，電能將氣體轉化為*活性的等離子體，等離子體輕柔沖刷固體樣品表面，引起分子結構的改變，從而達到對樣品表面有機污染物進行超清洗，在極短時間內有機污染物被外接真空泵抽走，其清洗能力可以達到分子級。在一定條件下等離子體也可使樣品表面特性發(fā)生改變。由于采用氣體作為清洗介質，所以能有效避免樣品的再次污染。等離子清洗機既能加強樣品的粘附性、相容性和浸潤性，也能對樣品進行殺毒和滅菌。目前，等離子清洗機已廣泛應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、高分子、生物醫(yī)學、微觀流體學等領域。
等離子清洗機的應用領域：
• LED、LCD、OLED、PCB等封裝領域中的超清洗和改性，增強其粘附性• 半導體元件、印刷線路板、ATR元件、人工晶體、天然晶體的超清洗
• 移除光學元件等表面光阻物質，去除金屬材料表面氧化物
• 清洗生物芯片、微流控芯片、沉積凝膠基片、高分子材料表面的修飾及改性
• 涂覆鍍膜領域中對玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面改性，使其活化，增強表面粘
附性、浸潤性、相容性，顯著提高涂覆鍍膜質量
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