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等離子清洗機去除晶圓光刻膠

來源:煙臺金鷹科技有限公司   2021年04月27日 07:47  

晶圓等離子清洗機晶圓光刻膠去除工藝蝕刻 ,等離子清洗機應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)
 a.硅片、晶圓制造:光刻膠的去除;
 b.微機電系統(tǒng)(MEMS): SU-8 膠的去除;
c.芯片封裝:引線焊盤的清潔、倒裝芯片底部填充、改善封膠的粘合效果;
d.失效分析:拆裝;e.電連接器、航空插座等。

等離子體清洗機去除晶圓表面光刻膠

等離子體清洗機在處理晶圓表面光刻膠時,等離子表面清洗能夠去除表面光刻膠和其余有機物,也可以通過等離子清洗機活化和粗化作用,對晶圓表面進行處理,能有效提高其表面浸潤性。相比于傳統(tǒng)的濕式化學(xué)方法,等離子體清洗機干式處理的可控性更強,一致性更好,并且對基體沒有損害。

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