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X射線熒光光譜法測試會受哪方面的影響嗎？，首先，被測樣品與標準物質(zhì)所含元素組成和含量有較大差異，被測樣品表面有鍍層或經(jīng)化學(xué)處理，測量時間,樣品的形狀,樣品測量的面積。制樣的好壞、標準曲線、參照標準、軟件補償、X射線熒光光譜儀種類：波長或能量或全反射類型等。還有溫度、濕度等自然因素
材質(zhì)必須均勻。你的待測元素不均勻的話，多的地方和少的地方差別會較大。因為XRF光譜儀入射光線一般較窄，直徑1-5微米，也就是說照射到樣品的區(qū)域會很小，所以不均勻樣品檢測會不準確，當然主要也是看不均勻程度。
你的交錯規(guī)律排列指的什么？如果是一層高分子，一層無機物，在一層高分子一層無機物，并且每層的厚度一定（比如第一層高分子都是10微米厚）。這樣的可以在一定程度上看成是均勻的，但是用X熒光光譜儀測量還是有問題，因為X熒光透過不同物質(zhì)有無限厚（某元素的X熒光透射不出來的厚度，原因是自吸收）的問題。這樣誤差看你每層的厚度了，如果每層都很薄，比如幾個微米那么影響會較小。如果每一層達到幾十比如50微米以上，那么影響就會較大
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