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X射線熒光光譜法測(cè)試會(huì)受哪方面的影響嗎？，首先，被測(cè)樣品與標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)所含元素組成和含量有較大差異，被測(cè)樣品表面有鍍層或經(jīng)化學(xué)處理，測(cè)量時(shí)間,樣品的形狀,樣品測(cè)量的面積。制樣的好壞、標(biāo)準(zhǔn)曲線、參照標(biāo)準(zhǔn)、軟件補(bǔ)償、X射線熒光光譜儀種類：波長(zhǎng)或能量或全反射類型等。還有溫度、濕度等自然因素
材質(zhì)必須均勻。你的待測(cè)元素不均勻的話，多的地方和少的地方差別會(huì)較大。因?yàn)閄RF光譜儀入射光線一般較窄，直徑1-5微米，也就是說照射到樣品的區(qū)域會(huì)很小，所以不均勻樣品檢測(cè)會(huì)不準(zhǔn)確，當(dāng)然主要也是看不均勻程度。
你的交錯(cuò)規(guī)律排列指的什么？如果是一層高分子，一層無機(jī)物，在一層高分子一層無機(jī)物，并且每層的厚度一定（比如第一層高分子都是10微米厚）。這樣的可以在一定程度上看成是均勻的，但是用X熒光光譜儀測(cè)量還是有問題，因?yàn)閄熒光透過不同物質(zhì)有無限厚（某元素的X熒光透射不出來的厚度，原因是自吸收）的問題。這樣誤差看你每層的厚度了，如果每層都很薄，比如幾個(gè)微米那么影響會(huì)較小。如果每一層達(dá)到幾十比如50微米以上，那么影響就會(huì)較大
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