各種鍍膜技術(shù)都需要有一個(gè)蒸發(fā)源或靶子，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。由于源或靶的不斷改進(jìn)，大大擴(kuò)大了制膜材料的選用范圍，無(wú)論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機(jī)物質(zhì)，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜，而且還可以同時(shí)蒸鍍不同材料而得到多層膜。

    以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。

簡(jiǎn)單地說(shuō)，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法即為真空鍍膜。

     真空鍍膜時(shí)，真空度一般在10的負(fù)3次方左右，真空度大小是真空鍍膜時(shí)必須嚴(yán)格要求的指標(biāo)之一，它對(duì)鍍膜產(chǎn)品的顏色、耐磨性、牢固度有直接的關(guān)系，通常鍍膜時(shí)加少許氣體，還有通過(guò)對(duì)電弧電源的控制增加母材在真空室的離化率，還可通過(guò)磁場(chǎng)控制電弧等以改變產(chǎn)品的外觀和內(nèi)在品質(zhì)。

    主要還是對(duì)鍍膜工藝的影響，無(wú)論什么鍍膜方式，真空度越高亦代表爐內(nèi)所含的雜氣原子越少，這樣鍍膜膜層成分就更趨近于你想要的比例，簡(jiǎn)單的說(shuō)就是純度及結(jié)晶狀態(tài)更可控。

    同時(shí)，對(duì)于鍍膜來(lái)說(shuō)，加熱基本是必須的，較高的真空度可以防止基材表面氧化或氮化，對(duì)結(jié)合力有很大的幫助。

    真空如果太低的話鍍出來(lái)的產(chǎn)品會(huì)發(fā)黑，時(shí)間一長(zhǎng)還會(huì)發(fā)黃，一般情況下抽到5.0-2就可以了，如果產(chǎn)品要求很高的話 就要抽到2.0-2了，當(dāng)然產(chǎn)品要求不高的話抽到-2也可以蒸發(fā)的，我所說(shuō)的說(shuō)是蒸發(fā)鍍！

真空鍍膜--可見(jiàn)真空度對(duì)真空鍍膜的影響

    真空度的高低就決定了你產(chǎn)品的合格與否，如果是裝飾性鍍膜，真空度的差別，直接導(dǎo)致的是顏色不一樣

    如果是功能性薄膜，那么就是你做出的產(chǎn)品附著力，光學(xué)性能等等的各項(xiàng)指標(biāo)出現(xiàn)偏差。