真空等離子體處理工藝，影響清洗效率的參數(shù)

來源：蘇州福佰特儀器科技有限公司 2021年11月15日 15:59

　　在等離子體清洗工藝當中，影響清洗效率的參數(shù)主要有以下幾個方面：

　?。?）放電氣壓（真空度）：對于低壓等離子體，放電氣壓增加，等離子體密度越高，電子溫度隨之降低。而等離子體的清洗效果取決于其密度和電子溫度兩個方面，如密度越高清洗速率越快、電子溫度越高清洗效果越好。因此，放電氣壓的選擇對低壓等離子體清洗工藝至關重要。

　　（2）氣體種類：待處理物件的基材及其表面污染物具有多樣性，而不同氣體放電所產(chǎn)生的等離子體清洗速度和清洗效果又相差甚遠。因此應該有針對性地選擇等離子體的工作氣體，如可選用氧氣等離子體去除物體表面的的油脂污垢，選用氫氬混合氣體等離子體去除氧化層

　　（3）放電功率：放電功率增大，可以增加等離子體密度和活性粒子能量，因而提高清洗效果。例如，氧氣等離子體的密度受放電功率的影響較大。

　　（4）暴露時間：待清洗材料在等離子體中的暴露時間對其表面清洗效果及等離子體工作效率有很大影響。暴露時間越長清洗效果相對越好，但工作效率降低。并且，過長時間的清洗可能會對材料表面產(chǎn)生損傷。

　　（5）其他：等離子體清洗工藝中的氣體分配、氣體流量、電極設置等參數(shù)也會影響清洗效果。因此需要根據(jù)實際情況和清洗要求設定具體的、適合的工藝參數(shù)

　　在實際的工作中，選擇合適的工藝參數(shù)至關重要，需要將各種影響因素綜合考量和運用。不能簡單的將參數(shù)獨立使用。

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