或者電子顯微鏡使用光學(xué)透鏡或電磁場(chǎng)來(lái)偏轉(zhuǎn)或聚焦具有能量的“入射粒子”。這些入射粒子束與樣品相互作用后，會(huì)產(chǎn)生各種二次粒子信號(hào)。檢測(cè)其二次粒子的信號(hào)不僅可以分析材料的結(jié)構(gòu)和各種特性。顯微鏡利用可見光子作為入射粒子，利用光學(xué)透鏡偏轉(zhuǎn)光子的傳播方向或聚焦光束。高倍顯微鏡也是傳統(tǒng)的光學(xué)顯微鏡。根據(jù)瑞利判據(jù)，大數(shù)值孔徑的光學(xué)透鏡用于大功率放大小物體，一般接近可見光光學(xué)的理論分辨率。除了理論分辨率的限制，透鏡系統(tǒng)的像差也是制約成像分辨率的主要因素。由于像差的存在，高倍顯微鏡的分辨率可以無(wú)限接近理論分辨率，但無(wú)法達(dá)到。高倍顯微鏡的透鏡系統(tǒng)要求像差很小，對(duì)透鏡系統(tǒng)的透鏡加工精度和裝配精度要求很高。一般來(lái)說(shuō)，隨著精度的提高，制造成本呈指數(shù)級(jí)增長(zhǎng)。電子顯微鏡利用電子作為入射粒子，通過(guò)電磁場(chǎng)偏轉(zhuǎn)電子或聚焦電子束。電子光學(xué)和可見光光學(xué)成像符合高斯成像定律。電子顯微鏡主要分為透射電子顯微鏡和掃描電子顯微鏡。透射電子顯微鏡的光路與光學(xué)顯微鏡相似。根據(jù)瑞利判據(jù)，成像光的波長(zhǎng)成為分辨率的基本極限，而能量為1Kev的電子束波長(zhǎng)約為可見光波長(zhǎng)的十分之一。一般透射電子顯微鏡使用的電子束能量在幾十kev到幾百Kev之間。目前EM分辨率光學(xué)顯微鏡高近萬(wàn)倍，達(dá)到0.08nm，掃描電鏡成像與光學(xué)顯微鏡成像*不同。電磁透鏡只是縮放電子束光斑的直徑，并不直接參與樣品細(xì)節(jié)的放大和縮小。目前掃描電子顯微鏡的最佳分辨率為0.8nm(注意掃描電子顯微鏡和TEM對(duì)分辨率的定義有些不同)?！陨险f(shuō)了這么多，也許是對(duì)牛彈琴，光學(xué)顯微鏡和電子顯微鏡有著巨大的區(qū)別，但凡是有點(diǎn)常識(shí)的人都知道這一點(diǎn)。但是市場(chǎng)上很多商家把帶有CCD數(shù)字圖像采集系統(tǒng)的光學(xué)顯微鏡稱為電子顯微鏡，顯然混淆了概念。搜索電子顯微鏡，花錢推廣幾個(gè)家庭的概念。