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鋨等離子鍍膜儀主要是用于導電性的鋨金屬的提供薄、無定型薄膜。它是一款小型的射頻等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜，它是一款物美價廉的實驗幫手。
一、設備優(yōu)勢：
1、采用原裝德國進口納米噴頭，噴頭采用高低壓轉換霧化設計，使液態(tài)分子極精細，且不影響藥水效果；
2、鋨存儲器可拆卸：具有密封式結構，可冷凍保存；
3、理論設計產(chǎn)能3000片-4000片/小時；
4、噴嘴運動速度及輸送線速度均可調(diào)，顯著提高生產(chǎn)效率，滿足各種用戶需求；
5、控制噴涂藥量，提高藥水的霧化能力，使膜層與玻璃能均勻的結合，提高產(chǎn)品噴涂的均勻性，增大膜層表面爽滑度；
6、采用雙等離子處理，鍍膜前對工件進行清潔處理，降低工件本身附帶的雜質(zhì)，使玻璃表面與膜層發(fā)生附和反應，提高膜層結合的牢固度，提升產(chǎn)品的抗老化以及耐摩擦能力，使鍍膜品質(zhì)更高；
7、自動化控制，鍍膜時只需設定薄膜厚度，鍍膜過程自動完成；
8、恒定流量控制系統(tǒng)，保證藥水平穩(wěn)恒定的供流，而非波浪線式供流，解決白霧現(xiàn)象；
9、鍍膜時間短：只需幾秒鐘膜厚就可以達到納米級；
10、裝有互鎖回路：一但OsO4氣體進入腔體，真空不達標，腔體就無法打開。
二、鋨等離子鍍膜儀的優(yōu)點：無放電，無晶粒，無熱損傷
1、無晶粒:形成非晶態(tài)金屬鍍層；
2、無熱損傷:涂層在室溫下進行；
3、無電子束損傷:鋨的熔化溫度為2700℃。
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