HORIBA真空紫外橢偏儀UVISEL 2 VUV概述
專為VUV 測量設計,整個系統(tǒng)處于真空狀態(tài),無氧氣吸收。具備高度準確性;獨YI無二的超快測量速度;快速樣品室抽真空能力,方便快速更換樣品;氮氣消耗量少。
重點應用領域
超薄膜
157nm 光刻新材料
有機材料、高分子材料
高k 材料:HfO2、Al2O3、TiO2、HfxAlyOz
抗反射涂層
半導體和介電材料電子躍遷
MgF2、CaF2、LaF3
HORIBA真空紫外橢偏儀UVISEL 2 VUV特點
★ 50KHz 高頻PEM 相位調制技術
★ 45 秒內(nèi)完成充氮氣
★ 2 分鐘內(nèi)完成樣品室抽真空
★ 8 分鐘內(nèi)完成光譜全譜范圍內(nèi)測量
★ 兩種工作模式:氮氣清洗結合抽
★ 真空、連續(xù)氮氣清洗
★ 光譜范圍:147nm~850nm;147nm~2100nm
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